CVD TAC와 소결 TAC의 차이점은 무엇입니까?

1. 탄탈 룸 카바이드 란 무엇입니까?

탄탈 룸 카바이드 (TAC)는 경험적 공식 Tacx를 갖는 탄탈 룸과 탄소로 구성된 이진 화합물이며, 여기서 X는 일반적으로 0.4 ~ 1의 범위에서 다양합니다. 매우 단단하고 부서지기 쉬운 금속 전도성 내화 세라믹 재료입니다. 그들은 갈색 회색 파우더이며 보통 소결. 중요한 금속 세라믹 재료로서, 탄탈 룸 카바이드는 절단 도구에 상업적으로 사용되며 때로는 텅스텐 카바이드 합금에 추가됩니다.

그림 1. 탄탈 룸 탄화물 원자재

탄탈 룸 카바이드 세라믹은 탄탈 럼 탄화물의 7 가지 결정 단계를 함유하는 세라믹입니다. 화학적 공식은 TAC, 얼굴 중심 입방 격자입니다.

그림 2.탄탈 룸 카바이드 - 위키 백과

이론적 밀도는 1.44이고, 용융점은 3730-3830 ℃이고, 열 팽창 계수는 8.3 × 10-6이고, 탄성 계수는 291GPA이고, 열 전도도는 0.22J/cm · C · C이며, 탄탈 룸 탄화물의 피크 융점은 약 3880 °입니다. 이 값은 이진 화합물 중에서 가장 높습니다.

그림 3.Tabr5 & ndash에서 탄탈 룸 탄화물의 화학 기상 증착

2. 탄탈 룸은 탄탈 룸이 얼마나 강합니까?

일련의 샘플의 Vickers 경도, 골절 인성 및 상대 밀도를 테스트함으로써 TAC는 5.5GPA 및 1300 ℃에서 최상의 기계적 특성을 갖는 것으로 결정될 수있다. TAC의 상대 밀도, 골절 인성 및 Vickers 경도는 각각 97.7%, 7.4mpam1/2 및 21.0gpa입니다.

탄탈 룸 카바이드는 탄탈 룸 카바이드 세라믹 (tantalum carbide ceramics)이라고도하며, 이는 넓은 의미에서 일종의 세라믹 물질입니다.탄탈 럼 탄화물의 제조 방법에는 포함됩니다CVD방법, 소결 방법현재 CVD 방법은 순도가 높고 높은 비용을 가진 반도체에서보다 일반적으로 사용됩니다.

3. 소결 탄탈 룸 카바이드와 CVD 탄탈 룸 탄소의 비교

반도체의 가공 기술에서, 소결 된 탄탈 룸 카바이드 및 화학 증기 증착 (CVD) 탄탈 룸 카바이드는 탄탈 럼 탄화물 제조를위한 두 가지 일반적인 방법이며, 이는 준비 과정, 미세 구조, 성능 및 응용 분야에서 상당한 차이를 갖는다.

3.1 준비 과정

소결 탄탈 룸 탄화물 : 탄탈 럼 탄화물 분말은 고온에서 소결되어 고압이있어 모양을 형성합니다. 이 과정은 분말 밀도, 곡물 성장 및 불순물 제거를 포함합니다.

CVD 탄탈 룸 카바이드 : 탄탈 럼 탄화물 가스 전구체는 가열 된 기판의 표면에서 화학적으로 반응하는데, 탄탈 룸 카바이드 필름은 층에 의해 층으로 증착된다. CVD 공정은 우수한 필름 두께 제어 능력 및 조성 균일 성을 갖는다.

3.2 미세 구조

소결 탄탈 룸 카바이드 : 일반적으로 큰 입자 크기와 기공이있는 다결정 구조입니다. 미세 구조는 소결 온도, 압력 및 분말 특성과 같은 요인에 의해 영향을받습니다.

CVD 탄탈 룸 카바이드 : 일반적으로 입자 크기가 작은 조밀 한 다결정 필름이며 지향적 인 성장을 달성 할 수 있습니다. 필름의 미세 구조는 증착 온도, 가스 압력 및 기체 상 조성과 같은 인자에 의해 영향을 받는다.

3.3 성능 차이

그림 4. 소결 TAC와 CVD TAC의 성능 차이

3.4 응용 프로그램

소결 탄탈 룸 탄화물: 높은 강도, 고음 및 고온 저항으로 인해 절단 도구, 내마비 부품, 고온 구조 재료 및 기타 필드에 널리 사용됩니다. 예를 들어, 소결 탄탈 룸 카바이드를 사용하여 드릴 및 밀링 커터와 같은 절단 도구를 제조하여 처리 효율 및 부분 표면 품질을 향상시킬 수 있습니다.

CVD 탄탈 룸 카바이드: 박막 특성, 우수한 접착력 및 균일 성으로 인해 전자 장치, 코팅 재료, 촉매 및 기타 필드에서 널리 사용됩니다. 예를 들어, CVD 탄탈 룸 카바이드는 통합 회로, 내마비 코팅 및 촉매 담체에 대한 상호 연결로 사용될 수 있습니다.

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