산화 및 확산로

산화 및 확산로는 반도체 장치, 개별 장치, 광전자 장치, 전력 전자 장치, 태양 전지 및 대규모 집적 회로 제조 등 다양한 분야에서 사용됩니다. 이는 웨이퍼의 확산, 산화, 어닐링, 합금화 및 소결을 포함한 공정에 활용됩니다.

VeTek Semiconductor는 산화 및 확산로에서 고순도 흑연, 탄화규소 및 석영 부품 생산을 전문으로 하는 선도적인 제조업체입니다. 우리는 반도체 및 광전지 산업을 위한 고품질 전기로 부품 제공에 최선을 다하고 있으며 CVD-SiC, CVD-TaC, pyrocarbon 등과 같은 표면 코팅 기술의 선두에 있습니다.

VeTek Semiconductor 탄화규소 부품의 장점:

고온 저항(최대 1600℃)

우수한 열전도율 및 열안정성

우수한 화학적 내식성

낮은 열팽창 계수

고강도 및 경도

긴 서비스 수명

산화 및 확산로에서는 고온 및 부식성 가스가 존재하기 때문에 많은 구성 요소에 고온 및 내부식성 재료를 사용해야 하며, 그 중에서 탄화규소(SiC)가 일반적으로 선택됩니다. 다음은 산화로 및 확산로에서 발견되는 일반적인 탄화규소 성분입니다.

웨이퍼 보트

실리콘 카바이드 웨이퍼 보트는 고온을 견딜 수 있고 실리콘 웨이퍼와 반응하지 않는 실리콘 웨이퍼를 운반하는 데 사용되는 컨테이너입니다.

퍼니스 튜브

퍼니스 튜브는 실리콘 웨이퍼를 수용하고 반응 환경을 제어하는 ​​데 사용되는 확산로의 핵심 구성 요소입니다. 실리콘 카바이드 퍼니스 튜브는 우수한 고온 및 내식성 성능을 가지고 있습니다.

배플 플레이트

화로 내부의 공기 흐름과 온도 분포를 조절하는 데 사용됩니다.

열전대 보호 튜브

온도 측정 열전대가 부식성 가스와 직접 접촉하지 않도록 보호하는 데 사용됩니다.

캔틸레버 패들

실리콘 카바이드 캔틸레버 패들은 고온 및 부식에 강하며 실리콘 웨이퍼를 운반하는 실리콘 보트 또는 석영 보트를 확산로 튜브로 운반하는 데 사용됩니다.

가스 인젝터

반응가스를 용광로에 도입하는 데 사용되며 고온 및 부식에 대한 내성이 필요합니다.

보트 캐리어

실리콘 카바이드 웨이퍼 보트 캐리어는 고강도, 내식성, 우수한 구조적 안정성 등의 장점을 지닌 실리콘 웨이퍼를 고정하고 지지하는 데 사용됩니다.

용광로 문

탄화규소 코팅 또는 부품은 퍼니스 도어 내부에도 사용될 수 있습니다.

발열체

탄화 규소 발열체는 고온, 고출력에 적합하며 온도를 1000 ℃ 이상으로 빠르게 올릴 수 있습니다.

SiC 라이너

용광로 튜브의 내벽을 보호하는 데 사용되며 열에너지 손실을 줄이고 고온, 고압과 같은 가혹한 환경을 견딜 수 있습니다.