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CVD TAC 코팅을 준비하는 방법? -Veteksemicon

CVD TAC 코팅이란 무엇입니까?


CVD TAC 코팅고강도, 부식성 및 우수한 화학적 안정성을 가진 중요한 고온 구조 물질입니다. 용융점은 3880 ℃로 높으며 온도가 높은 화합물 중 하나입니다. 그것은 탁월한 고온 기계적 특성, 고속 공기 흐름 침식 저항, 절제 저항성 및 흑연 및 탄소/탄소 복합 재료와의 우수한 화학적 및 기계적 호환성을 가지고 있습니다.

그러므로MOCVD 에피 택셜 프로세스GAN LED 및 SIC 전원 장치의CVD TAC 코팅H2, HC1 및 NH3에 대한 우수한 산 및 알칼리 저항성을 가지며, 이는 흑연 매트릭스 재료를 완전히 보호하고 성장 환경을 정화 할 수 있습니다.


CVD TAC 코팅은 여전히 ​​2000 년 이상 안정적이며 CVD TAC 코팅은 1200-1400 ℃에서 분해되기 시작하며, 이는 흑연 매트릭스의 무결성을 크게 향상시킬 것이다. 대기업은 모두 CVD를 사용하여 흑연 기판에서 CVD TAC 코팅을 준비하고 CVD TAC 코팅의 생산 능력을 더욱 향상시키기 위해 SIC 전원 장치 및 갠지스 에피 택셜 장비의 요구를 충족시킵니다.


CVD 탄탈 럼 탄화물 코팅의 제조 조건


CVD TAC 코팅의 제조 과정은 일반적으로 고밀도 흑연을 기판 재료로 사용하고 결함이없는 준비를합니다.CVD TAC 코팅CVD 방법에 의한 흑연 표면에서.


CVD TAC 코팅을 제조하기위한 CVD 방법의 실현 공정은 다음과 같습니다. 기화 챔버에 배치 된 고체 탄탈 공원은 특정 온도에서 가스로 승화시키고, 특정 유량의 AR 캐리어 가스에 의해 기화 챔버 밖으로 운반됩니다. 특정 온도에서, 기체 탄탈 룸 공급원은 수소와 만나 감소 반응을 겪습니다. 마지막으로, 감소 된 탄탈 룸 요소는 증착 챔버에서 흑연 기질의 표면에 증착되고, 탄화 반응은 특정 온도에서 발생한다.


CVD TAC 코팅 과정에서 기화 온도, 가스 유량 및 증착 온도와 같은 공정 파라미터는 형성에 매우 중요한 역할을합니다.CVD TAC 코팅및 혼합 방향을 갖는 CVD TAC 코팅은 TACL5 -H2 -AR -C3H6 시스템을 사용하여 1800 ℃에서 등온 화학 증기 증착에 의해 제조되었다.


CVD TAC 코팅을 준비하는 과정



Figure 1 shows the configuration of the chemical vapor deposition (CVD) reactor and the associated gas delivery system for TaC deposition

도 1은 화학 증기 증착 (CVD) 반응기의 구성 및 TAC 증착을위한 관련 가스 전달 시스템의 구성을 보여준다.


Figure 2 shows the surface morphology of the CVD TaC coating at different magnifications, showing the density of the coating and the morphology of the grains

도 2는 상이한 배열에서 CVD TAC 코팅의 표면 형태를 보여 주며, 코팅의 밀도와 입자의 형태를 보여준다.


Figure 3 shows the surface morphology of the CVD TaC coating after ablation in the central area, including blurred grain boundaries and fluid molten oxides formed on the surface

도 3은 중앙 영역에서 절제 후 CVD TAC 코팅의 표면 형태를 보여줍니다.


it shows the XRD patterns of the CVD TaC coating in different areas after ablation, analyzing the phase composition of the ablation products, which are mainly β-Ta2O5 and α-Ta2O5

그림 4는 제거 후 다른 영역에서 CVD TAC 코팅의 XRD 패턴을 보여줍니다.

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