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CVD TAC 코팅 도가니
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CVD TAC 코팅 도가니

Vetek Semiconductor는 중국의 CVD TAC 코팅 도가니 제품의 전문 제조업체이자 리더입니다. CVD TAC 코팅 Crucible은 탄탈륨 탄소 (TAC) 코팅을 기반으로합니다. 탄탈륨 탄소 코팅은 화학 증기 증착 (CVD) 공정을 통해 도가니 표면에 골고루 덮여 내열성 및 부식 저항을 향상시킵니다. 고온 극한 환경에서 특별히 사용되는 재료 도구입니다. 추가 상담을 환영합니다.

TAC 코팅 회전 감수자는 CVD 및 MBE와 같은 고온 증착 공정에서 중요한 역할을하며 반도체 제조에서 웨이퍼 처리를위한 중요한 구성 요소입니다. 그들 중에서,TAC 코팅고온 저항, 부식성 및 화학적 안정성이 우수하여 웨이퍼 처리 중에 높은 정밀도 및 고품질을 보장합니다.


CVD TAC 코팅 Crucible은 일반적으로 TAC 코팅 및석묵기판. 그 중에서도 TAC는 최대 3880 ° C의 융점을 갖는 높은 융점 세라믹 물질입니다. 그것은 매우 높은 경도 (2000 HV의 Vickers 경도), 화학적 차단 저항성 및 강한 산화 저항을 가지고 있습니다. 따라서, TAC 코팅은 반도체 처리 기술에서 우수한 고온 저항성 물질이다.

흑연 기질은 우수한 열전도율 (열 전도도는 약 21 w/m · k) 및 우수한 기계적 안정성을 갖는다. 이 특성은 흑연이 이상적인 코팅이되는 것을 결정합니다기판.


CVD TAC 코팅 Crucible은 주로 다음 반도체 처리 기술에 사용됩니다.:


웨이퍼 제조: Vetek 반도체 CVD TAC 코팅 Coating Crucible은 우수한 고온 저항 (최대 3880 ° C의 융점)과 부식성을 가지므로 고온 기화 (CVD) 및 에피축 성장과 같은 주요 웨이퍼 제조 공정에서 종종 사용됩니다. 초고 온도 환경에서 제품의 우수한 구조적 안정성과 결합하여 장비가 매우 가혹한 조건에서 오랫동안 안정적으로 작동 할 수 있도록하여 웨이퍼의 생산 효율과 품질을 효과적으로 향상시킵니다.


에피 택셜 성장 과정:와 같은 에피 택셜 프로세스에서화학 기상 증착 (CVD)및 분자 빔 에피 택시 (MBE), CVD TAC 코팅 Crucible은 운반에 중요한 역할을한다. TAC 코팅은 극한 온도와 부식성 대기 하에서 재료의 높은 순도를 유지할뿐만 아니라 재료에 대한 반응물의 오염과 반응기의 부식을 효과적으로 방지하여 생산 공정의 정확성 및 제품 일관성을 보장합니다.


Vetek Semiconductor는 중국의 주요 CVD TAC 코팅 도가니 제조업체 및 리더로서 장비 및 공정 요구 사항에 따라 맞춤형 제품 및 기술 서비스를 제공 할 수 있습니다. 우리는 진심으로 중국에서 당신의 장기 파트너가되기를 바랍니다.


현미경 단면에서 탄탈 룸 탄화물 (TAC) 코팅


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


TAC 코팅의 물리적 특성


TAC 코팅의 물리적 특성
밀도
14.3 (g/cm³)
특정 방사율
0.3
열 팽창 계수
6.3*10-6/케이
경도 (HK)
2000 hk
저항
1 × 10-5옴*cm
열 안정성
<2500 ℃
흑연 크기 변화
-10 ~ -20UM
코팅 두께
≥20UM 일반 값 (35um ± 10um)


반도체 CVD TAC 코팅 도가니 상점 :


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