지원 서비스

VeTek Semiconductor는 차세대 초광대역 밴드갭 반도체 장치용 고품질 질화알루미늄(AlN) 단결정 웨이퍼와 기판을 공급합니다. 약 6.2eV의 매우 넓은 밴드갭, 뛰어난 열 전도성, 뛰어난 전기 절연성, GaN과의 뛰어난 격자 및 열팽창 매칭을 갖춘 AlN 웨이퍼는 고전력 RF 장치, 고전압 전력 전자 장치 및 심자외선(DUV) 광전자공학에 이상적입니다.

CVD SiC 코팅 흑연 부품에 대한 VETEK 전문 세척 서비스는 GaN/AlN/AlGaN 에피택셜 공정에 사용되는 Aixtron/Veeco MOCVD 장비 서셉터 및 흑연 부품을 위해 설계된 전문 기술 서비스입니다. 당사의 독점적인 세척 공정은 표면 기억 효과를 철저하게 제거하고, 반응기 내 안정적인 가스 흐름을 복원하며, 절대 제로 두께 손실과 제로 금속 잔류물로 100μm CVD SiC 코팅을 엄격하게 보호합니다.

5G 통신, 정밀 의료 기기 및 스마트 웨어러블의 확장과 함께 고감도 및 저전력 MEMS 변환기에 대한 수요가 증가함에 따라 당사의 Si/SOI 웨이퍼 기반 PZT는 중요한 재료 솔루션을 제공합니다. Sol-gel 또는 스퍼터링과 같은 고급 박막 증착 공정을 활용하여 실리콘 기판에서 탁월한 일관성과 탁월한 압전 성능을 달성합니다. 이러한 웨이퍼는 전기 기계 에너지 변환의 기본 핵심 역할을 합니다.

탄화규소 결정 성장은 고성능 반도체 소자 제조의 핵심 공정입니다. 결정 성장 장비의 안정성, 정밀도 및 호환성은 탄화규소 잉곳의 품질과 수율을 직접적으로 결정합니다. Veteksemi는 PVT(물리적 증기 수송) 기술의 특성을 기반으로 실리콘 카바이드 결정 성장을 위한 저항 가열로를 개발하여 전도성, 반절연 및 N형 재료 시스템과 완벽하게 호환되는 6인치, 8인치 및 12인치 실리콘 카바이드 결정의 안정적인 성장을 가능하게 합니다. 온도, 압력, 전력의 정밀한 제어를 통해 EPD(Etch Pit Density), BPD(Basal Plane Dislocation) 등의 결정결함을 효과적으로 줄이며, 낮은 에너지 소비와 컴팩트한 디자인으로 산업 대규모 생산의 높은 기준을 충족합니다.

CMP 연마슬러리(Chemical Mechanical Polishing Slurry)는 반도체 제조 및 정밀재료 가공에 사용되는 고성능 소재입니다. 핵심 기능은 화학적 부식과 기계적 연삭의 시너지 효과로 재료 표면의 미세한 평탄도와 연마를 달성하여 나노 수준의 평탄도 및 표면 품질 요구 사항을 충족하는 것입니다. 앞으로도 많은 상담을 기대합니다.

Vetek Semiconductor CVD SIC 코팅 더미 웨이퍼는 주요 중국 SIC 웨이퍼 제조업체 및 공급 업체로서 실리콘 웨이퍼 테스트 및 웨이퍼 테스트 프로세스의 목적으로 주로 사용되는 반도체 제조의 특수 도구입니다. 추가 문의를 환영합니다.