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흑연의 다공성 구조
다공성 흑연은 기본 물질로서 흑연으로 만들어진 다공성 구조 생성물이다. 그 재료는 고순도 흑연으로 만들어졌습니다. Vetek 반도체 다공성 흑연의 물리적 파라미터는 생산 공정 및 특정 적용에 따라 다릅니다. 다음은 일반적인 물리적 매개 변수입니다.
전형적인 물리적 특성다공성 흑연
ltem
매개 변수
벌크 밀도
0.89 g/cm2
압축 강도
8.27 MPa
굽힘 강도
8.27 MPa
인장 강도
1.72 MPa
특정 저항
130Ω-inx10-5
다공성
50%
평균 기공 크기
70UM
열전도율
12W/m*k
다공성 흑연은 고순도 흑연으로 만들어지며 전기 전도도, 열 전도도, 고온 저항, 산화 저항, 화학적 안정성 및 기타 특성을 갖는다. 반도체 처리 산업에서 널리 사용됩니다.
반도체 처리 과정에서 다공성 흑연은 다음 측면에서 널리 사용됩니다.:
산, 알칼리 및 용매와 같은 대부분의 화학 물질에 대한 우수한 내식성과 같은 다공성 흑연의 탁월한 고온 저항성 및 화학적 안정성과 결합하여 다공성 흑연은 종종 고온 소결 및 열처리 장비에 사용됩니다. 예를 들어, 다공성 흑연은 고온 용광로의 안감, 절연 재료 또는지지 재료로 사용될 수 있습니다.
또한, 다공성 흑연 성분은 균일 한 열전대 및 안정적인 전기 특성을 제공하기 위해 우수한 전기 전도도 및 열 안정성을 갖는다. 따라서이 제품은 종종에서 사용됩니다확산 또는 산화 과정확산 소스 또는 전극 재료로서 반도체 처리의.
다공성 흑연의 다공성 구조는 반도체 처리에 사용되는 가스를 여과하고 정제 할 수 있으며, 입자 오염이 가능한 가능한 가스를 감소 시키며, 가공 중에 높은 청결을 보장 할 수 있습니다. 다공성 구조 및 우수한 공기 투과성을 갖는 다공성 흑연 부품은 또한 진공 흡착 시스템에서베이스 및 고정물로 사용하여 효율적인 진공 흡착을 통해 웨이퍼 또는 기타 구성 요소를 고정시킬 수 있습니다.
흑연의 소결 과정을 조정하여 Vetek 반도체는서로 다른 응용 프로그램 요구 사항을 충족하기 위해 다른 기공 크기와 대마사를 가진 다공성 흑연 재료를 사용자 정의하십시오..
다공성 흑연 SIC 결정 성장 다공성 흑연 3 페탈 흑연 도가니
실제로 Vetek Semiconductor는 중국의 SIC 코팅 흑연 감수자 시장, TAC 코팅 흑연 Crucible 시장 및 실리콘 카바이드 코팅 흑연 트레이 시장에서 절대 시장 선도 위치를 보유하고 있습니다. Vetek Semiconductor는 전문 중국 제조업체, 공급 업체, 특수 흑연 제품 공장입니다.SIC 결정 성장 다공성 흑연, 불분해 탄소 코팅, 유리체 탄소 코팅, 등방성 흑연, 실리콘 화 된 흑연그리고고순도 흑연 시트. 우리는 반도체 산업을위한 다양한 특수 흑연 제품을위한 고급 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있습니다.
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