실리콘 카바이드 코팅

VeTek Semiconductor는 초순수 탄화규소 코팅 제품 생산을 전문으로 하며, 이러한 코팅은 정제된 흑연, 세라믹 및 내화 금속 부품에 적용되도록 설계되었습니다.

당사의 고순도 코팅은 주로 반도체 및 전자 산업에 사용되는 것을 목표로 합니다. 이는 웨이퍼 캐리어, 서셉터 및 발열체를 위한 보호층 역할을 하며 MOCVD 및 EPI와 같은 공정에서 발생하는 부식성 및 반응성 환경으로부터 이들을 보호합니다. 이러한 프로세스는 웨이퍼 처리 및 장치 제조에 필수적입니다. 또한 당사의 코팅은 고진공, 반응성 및 산소 환경에 직면하는 진공로 및 샘플 가열 분야에 매우 적합합니다.

VeTek Semiconductor에서는 고급 기계 공장 기능을 갖춘 포괄적인 솔루션을 제공합니다. 이를 통해 흑연, 세라믹 또는 내화 금속을 사용하여 기본 구성 요소를 제조하고 SiC 또는 TaC 세라믹 코팅을 사내에서 적용할 수 있습니다. 또한 고객이 제공하는 부품에 대한 코팅 서비스를 제공하여 다양한 요구 사항을 충족할 수 있는 유연성을 보장합니다.

당사의 탄화규소 코팅 제품은 Si 에피택시, SiC 에피택시, MOCVD 시스템, RTP/RTA 공정, 에칭 공정, ICP/PSS 에칭 공정, 청색 및 녹색 LED, UV LED 및 원자외선을 포함한 다양한 LED 유형의 공정에 널리 사용됩니다. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI 등의 장비에 적용되는 LED 등.

우리가 할 수 있는 원자로 부품:

실리콘 카바이드 코팅에는 몇 가지 고유한 장점이 있습니다.

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor 실리콘 카바이드 코팅 매개변수

CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성
재산	일반적인 값
결정 구조	FCC β상 다결정, 주로 (111) 방향
SiC 코팅 밀도	3.21g/cm³
SiC 코팅경도	비커스 경도 2500(500g 하중)
입자 크기	2~10μm
화학적 순도	99.99995%
열용량	640J·kg^-1·케이^-1
승화 온도	2700℃
굴곡강도	415MPa RT 4점
영률	430 Gpa 4pt 벤드, 1300℃
열전도율	300W·m^-1·케이^-1
열팽창(CTE)	4.5×10-6K^-1

CVD SIC 필름 결정 구조

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

실리콘 카바이드 코팅 Epi 서셉터 SiC 코팅 웨이퍼 캐리어 MOCVD용 SiC 코팅 새틀라이트 커버 CVD SiC 코팅 웨이퍼 Epi 서셉터 CVD SiC 코팅 발열체 Aixtron 위성 웨이퍼 캐리어 SiC 코팅 Epi 수신기 SiC 코팅 반달 흑연 부품

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Aixtron MoCVD 지원자

Vetek Semiconductor의 Aixtron MOCVD 서셉터는 반도체 생산의 박막 증착 공정, 특히 MOCVD 공정에 사용됩니다. Vetek Semiconductor는 고성능 Aixtron MOCVD Susceptor 제품을 제조 및 공급하는 데 중점을 두고 있습니다. 귀하의 문의를 환영합니다.

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실리콘 카바이드 세라믹 코팅 흑연 히터

Vetek 반도체의 실리콘 카바이드 세라믹 코팅 흑연 히터는 흑연 기판으로 만들어진 고성능 히터이며 표면에 실리콘 탄소 세라믹 (SIC) 코팅으로 코팅 된 고성능 히터입니다. 복합 재료 설계를 통해이 제품은 반도체 제조에서 우수한 난방 솔루션을 제공합니다. 문의를 환영합니다.

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실리콘 카바이드 세라믹 코팅 히터

실리콘 카바이드 세라믹 코팅 히터는 주로 반도체 제조의 고온 및 가혹한 환경을 위해 설계되었습니다. 초고 융점, 우수한 내식성 및 뛰어난 열전도율은 반도체 생산 공정 에서이 제품의 필수 불가능 성을 결정합니다.

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실리콘 카바이드 세라믹 코팅

중국의 전문 실리콘 카바이드 세라믹 코팅 제조업체 및 공급 업체로서 Vetek Semiconductor의 실리콘 카바이드 세라믹 코팅은 특히 CVD 및 PECVD 공정이 관련 될 때 반도체 제조 장비의 주요 구성 요소에 널리 사용됩니다. 문의를 환영합니다.

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EPI 지지자

EPI 감수자는 까다로운 Epitaxial 장비 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 고순도 실리콘 카바이드 (SIC) 코팅 된 흑연 구조는 탁월한 내열, 일관된 에피 택셜 층 두께 및 저항을위한 균일 한 열 균일 성을 제공합니다. 우리는 당신과 협력하기를 고대합니다.

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