웨이퍼 캐리어용 VETEK CVD SiC 코팅 흑연 서셉터는 반도체 에피택시 공정용으로 설계된 고성능 웨이퍼 지지 부품입니다. 고순도 흑연을 기판으로 사용하고 균일한 CVD 실리콘카바이드(SiC)층으로 코팅해 열안정성, 내화학성, 파티클 제어 등이 뛰어난 제품이다. 중요한 흑연 서셉터 구성 요소로서 반응 챔버 내부의 웨이퍼를 직접 지지하고 균일한 온도 분포와 안정적인 에피택셜 성장 조건을 유지하는 데 도움이 됩니다.
고순도 재료:반도체급 흑연 소재와 치밀한 SiC 코팅 구조는 오염 위험을 최소화하고 CVD SiC 코팅 흑연 서셉터의 신뢰성을 향상시킵니다.
탁월한 열 균일성:최적화된 흑연 구조와 SiC 코팅으로 안정적인 열 전달과 균일한 웨이퍼 온도 제어를 제공합니다.
우수한 내화학성:조밀한 SiC 코팅은 공정 가스 및 부식성 환경에 대한 강력한 저항성을 제공합니다.
긴 서비스 수명:높은 경도와 내마모성은 고온 에피택시 조건에서 내구성을 향상시킵니다.
낮은 입자 발생:조밀한 CVD SiC 표면은 입자 방출을 줄이고 웨이퍼 공정 신뢰성을 향상시킵니다.
맞춤형 설계 기능:장비 요구 사항에 따라 다양한 크기, 구조 및 구성이 가능합니다.
2. 기술 사양
목
일반적인 값
기판 재료
고순도 흑연
코팅재료
CVD 실리콘 카바이드(SiC)
SiC 순도
≥99.999%
코팅 두께
100 ± 20μm(맞춤형)
코팅 두께 균일성
배치 간 10μm 이내로 제어
CVD SiC 코팅 밀도
3.21g/cm³
열전도율
300W/m·K
열팽창계수
4.5 × 10⁻⁶/K
3. 응용
SiC 에피택시 공정:흑연 서셉터는 SiC 에피택시 장비의 웨이퍼 캐리어로 사용되어 고온 에피택셜 성장 중에 SiC 기판을 지지합니다.
실리콘 에피택시 공정:웨이퍼를 지지하고 안정적인 열 조건을 유지하기 위해 실리콘 에피택셜 반응기에 적용됩니다.
MOCVD 에피택시:VETEK 흑연 서셉터는 뛰어난 열 균일성과 화학적 안정성이 요구되는 MOCVD, LED 에피택시, GaN 에피택시, 실리콘 에피택시 및 기타 반도체 제조 공정에 적합합니다.
반도체 제조 장비:LPE 수평로, Aixtron, NuFlare 및 관련 반도체 장비를 포함한 다양한 에피택시 플랫폼과 호환됩니다.
4. VETEK을 선택하는 이유는 무엇입니까?
VETEK은 흑연 정제, 정밀 가공, CVD 코팅 및 검사 기능을 통합한 맞춤형 CVD SiC 코팅 흑연 서셉터 솔루션을 제공합니다. 당사의 반도체 등급 흑연 서셉터 제품은 까다로운 웨이퍼 캐리어 응용 분야를 위한 고순도, 균일한 코팅 두께, 우수한 열 성능 및 긴 서비스 수명을 특징으로 합니다.
핫 태그: CVD SiC 코팅 흑연 서셉터, 흑연 서셉터, SiC 코팅 흑연 웨이퍼 캐리어, 반도체 에피택시 서셉터, MOCVD 흑연 서셉터, SiC 웨이퍼 캐리어, CVD SiC 흑연 서셉터
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.