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석영 가스 분포판으로도 알려진 석영 샤워 헤드는 CVD (화학 증기 증착), PECVD (플라즈마 강화 CVD) 및 ALD (원자 층 증착)와 같은 반도체 박막 증착 공정에 사용되는 중요한 구성 요소입니다. 고급 융합 석영으로 만들어진이 구성 요소는 초저 오염과 우수한 열 안정성을 보장하여 웨이퍼 표면을 가로 질러 정밀한 가스 전달 및 균일 한 필름 성장을 가능하게합니다. 추가 상담을 기대합니다.

우리의 TAC 코팅 된 흑연 가이드 링은 반도체 웨이퍼 제조를위한 정밀 코어 구성 요소입니다. 이들은 내마모 및 화학적으로 불활성 탄탈 룸 (TAC) 코팅으로 코팅 된 고순도 흑연 기판을 특징으로한다. 에피 택셜 증착 및 혈장 에칭과 같은 까다로운 프로세스를 위해 설계된 정확한 웨이퍼 정렬 및 안정성을 보장하고, 오염을 효과적으로 제어하며, 구성 요소 수명을 크게 확장시킵니다. Veteksemicon은 장비 및 프로세스 요구 사항을 완벽하게 일치시키기 위해 사용자 정의 서비스를 제공합니다.

Veteksemicon 반도체 쿼츠 스크린은 MoCVD (Metal-Organic Chemical vapor 증착) 시스템에서 중요한 구성 요소로, 박막 성장 공정을 최적화하는 데 중요한 역할을합니다. 이 제품 세부 사항 페이지는 MoCVD 장비의 균일 성, 순도 및 유지 보수 효율을 향상 시키도록 설계된 Veteksemicon의 High-Purity Quartz 스크린을 강조합니다.

고순도 석영 Crucible은 고급 반도체 제조 공정에서 필수적인 핵심 구성 요소이며, 특히 매우 높은 열 안정성, 화학적 순도 및 치수 정확도가 필요한 응용 분야에서는 필수적입니다. Veteksemicon은 반도체 프로세스의 극단적 인 요구를 충족시키기 위해 설계된 우수한 고순도 석영 도가니를 제공합니다.

Veteksemicon의 다공성 SIC 세라믹 척은 에칭, 이온 임플란트, CMP 및 검사와 같은 고급 반도체 프로세스에서 안전하고 입자가없는 웨이퍼 처리를 위해 설계된 정밀 엔지니어링 진공 플랫폼입니다. 고순도 다공성 실리콘 카바이드에서 제조 된이 제품은 뛰어난 열전도율, 화학 저항 및 기계적 강도를 제공합니다. Veteksemicon은 사용자 정의 가능한 기공 크기 및 치수를 통해 클린 룸 웨이퍼 처리 환경의 엄격한 요구를 충족시키기 위해 맞춤형 솔루션을 제공합니다.

우리의 석영 웨이퍼 보트는 반도체, LED, 태양 전지 및 배터리 제조 공정에 맞게 조정 된 고급 웨이퍼 캐리어 솔루션입니다. 고온과 화학적으로 공격적인 환경을 견딜 수 있도록 설계된이 석영 보트는 낮은 열 팽창, 우수한 전기 절연 및 장기 치수 안정성을 특징으로합니다. 확산, 산화 및 LPCVD 공정에 이상적 인 정확한 웨이퍼 정렬을 지원하며 다양한 장비 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 크기로 제공됩니다.