CSEAC 2026에서 Vetek Semiconductor: 반도체 재료, 핵심 부품 및 글로벌 협력 발전

제14회 반도체 장비·핵심부품·재료 전시회(CSEAC 2026)가 2026년 8월 31일부터 9월 2일까지 중국 장쑤성 우시에서 개최됐다.베텍 반도체이번 행사에 참가해 첨단 반도체 소재, CVD 코팅 기술, 정밀 부품 등을 소개하고 중국 및 해외 고객, 파트너, 업계 전문가와 교류했다.

CSEAC는 중국의 반도체 장비, 재료 및 핵심 부품에 초점을 맞춘 중요한 전문 전시회 중 하나로서 반도체 제조 산업 전반에 걸쳐 기술 교류, 공급망 협력 및 비즈니스 개발을 위한 효과적인 플랫폼을 제공합니다.

베텍 반도체에게 CSEAC 2026은 제품을 선보일 수 있는 기회일 뿐만 아니라 고객 요구 사항을 더 잘 이해하고 신기술을 논의하며 업계 파트너와의 장기적인 협력을 강화할 수 있는 중요한 기회였습니다.

첨단소재 및 반도체 핵심부품에 집중

전시회 기간 동안 Vetek Semiconductor는 반도체 열장 재료, CVD 코팅 및 정밀 부품 분야의 역량을 강조했습니다.

주요 제품 영역은 다음과 같습니다.

• 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터
• 탄탈륨 카바이드 코팅 흑연 부품
• 실리콘 카바이드 캔틸레버 패들
• SiC 확산로 튜브
• 실리콘 카바이드 SiC 웨이퍼 보트

이러한 재료와 부품은 실리콘 에피택시, SiC 에피택시, MOCVD, SiC 결정 성장, RTP/RTA, 산화 및 확산, ICP 에칭 및 기타 고온 제조 환경과 같은 반도체 공정에 널리 사용됩니다.

그중에서도 SiC 및 TaC 코팅 흑연 서셉터, 에피택시 부품, MOCVD 서셉터 및 SiC 결정 성장 열장 부품이 방문객의 특별한 관심을 끌었습니다.

부품 공급부터 프로세스 중심 솔루션까지

Vetek 부스에서의 기술 논의는 개별 제품 사양을 넘어섰습니다.

고객과 엔지니어는 코팅 수명, 입자 오염, 열 응력, 치수 안정성, 서셉터 평탄도, 에피택셜 균일성 및 고온 부식 환경에 대한 내성에 대한 의견을 교환했습니다.

예를 들어 에피택시 응용 분야의 경우 흑연 서셉터는 기계적 웨이퍼 지지뿐만 아니라 안정적인 열 및 유동장 조건도 제공해야 합니다. 포켓 형상, 평탄도, 코팅 균일성 및 재료 특성은 모두 웨이퍼 온도 분포 및 증착 일관성에 영향을 미칠 수 있습니다.

따라서 Vetek Semiconductor는 기존의 정밀 부품 제조에서 재료 엔지니어링, CNC 가공, 정제, CVD SiC/TaC 코팅, 품질 검사 및 공정 최적화를 결합한 통합 모델을 향한 역량을 지속적으로 개발하고 있습니다.

이러한 접근 방식을 통해 Vetek은 부품 개발, 프로토타입 검증 및 대량 생산 최적화 과정에서 반도체 장비 제조업체 및 프로세스 고객과 더욱 긴밀하게 협력할 수 있습니다.

고객 및 파트너 협력 강화

CSEAC 2026은 또한 Vetek Semiconductor가 기존 파트너 및 잠재 고객을 만날 수 있는 중요한 기회를 제공했습니다.

전시회 기간 동안 Vetek 팀은 진행 중인 프로젝트, 신소재 검증, 부품 현지화, 제품 수명 개선 및 향후 공동 개발 기회를 다루는 일련의 비즈니스 및 기술 회의를 가졌습니다.

행사 기간 동안 여러 협력 프로젝트가 더욱 진전되었으며, 신규 수주 및 후속 협력 계획도 논의되었습니다.

반도체 공급망은 점점 더 단순한 부품 구매에서 더 깊은 엔지니어링 협업으로 이동하고 있습니다. 고객은 공급업체가 재료 선택, 구조 설계, 테스트, 프로세스 평가 및 지속적인 제품 개선에 더 일찍 참여하기를 기대합니다.

이러한 추세는 Vetek Semiconductor의 개발 전략과 밀접하게 일치합니다. 국제 업계 전문가와 아이디어 교환CSEAC는 또한 최신 반도체 기술과 글로벌 산업 동향을 관찰하기 위한 중요한 플랫폼이기도 합니다.

전시회 기간 동안 Vetek 팀은 다양한 국가 및 지역의 반도체 장비 회사, 재료 공급업체, 엔지니어 및 업계 전문가들과 소통했습니다.

토론에서는 실리콘, SiC 및 GaN 제조, SiC 에피택시, 고급 MOCVD 열장 설계, 차세대 반도체 재료 및 수명이 긴 코팅 솔루션 등을 포함한 주제를 다루었습니다.

3세대 반도체 장치가 계속해서 더 높은 전압, 더 높은 작동 온도 및 더 높은 전력 밀도로 이동함에 따라 반도체 장비 구성 요소는 점점 더 까다로워지는 환경에서도 안정적으로 작동해야 합니다.

따라서 향후 재료 개발은 개별 사양뿐만 아니라 더 높은 순도, 향상된 열 안정성, 더 낮은 입자 생성, 더 긴 서비스 수명 및 더 나은 배치 간 일관성에도 초점을 맞출 것입니다.

이러한 영역은 Vetek Semiconductor의 주요 우선순위로 유지됩니다.

미래를 내다보며

CSEAC 2026은 종료되었지만, 전시 기간 동안 시작된 논의와 협력은 계속될 것입니다.

고객이 제기한 모든 기술적 질문, 파트너와의 모든 토론, 국제 업계 전문가와의 모든 교환은 향후 제품 개발 및 기술 개선을 위한 귀중한 의견을 제공합니다.

베텍 반도체는 CVD SiC 코팅, CVD TaC 코팅, 고순도 흑연, 고체 SiC, SiC 세라믹, 탄소/탄소 복합재 및 반도체 석영 부품에 계속 투자할 예정입니다.

이와 동시에 고순도 소재, 정밀 가공, CVD 코팅, 맞춤형 엔지니어링 솔루션 역량을 더욱 강화해 나갈 예정이다.

베텍 반도체는 전 세계 반도체 장비 제조업체, 웨이퍼 제조공장, 연구 기관 및 업계 파트너와 긴밀히 협력하여 고급 반도체 제조를 위한 보다 안정적인 재료 및 부품을 제공하는 것을 목표로 합니다.

CSEAC 2026은 또 다른 성공적인 전시회의 완성일 뿐만 아니라 새로운 협력과 새로운 기회의 시작을 의미합니다.

베텍 반도체는 보다 안정적이고 효율적이며 신뢰할 수 있는 반도체 제조를 발전시키기 위해 글로벌 반도체 파트너와 협력하기를 기대하고 있습니다.

베텍 반도체— 첨단 반도체 제조를 위한 첨단 소재.