EPI 수신기 부품

일반 제품 정보

제품 비즈니스 용어

✔ 애플리케이션: SiC 에피택셜 공정에서 최고의 성능과 수율을 추구하는 Veteksemicon EPI Susceptor는 탁월한 열 안정성과 균일성을 제공하여 전력 및 RF 장치의 성능을 향상하고 전체 비용을 절감하는 데 핵심 지원이 됩니다.

✔ 제공할 수 있는 서비스: 고객 응용 시나리오 분석, 자료 매칭, 기술 문제 해결. 

✔ 회사 프로필：Veteksemicon에는 20년의 재료 경험과 R&D, 생산, 테스트 및 검증 능력을 갖춘 전문가 팀인 2개의 실험실이 있습니다.

나의 라이벌 EPI 계약자 부품 핵심 장점

1. 궁극적인 균일성을 보장합니다.

탄화규소 에피택셜 공정에서는 미크론 수준의 두께 변동과 도핑 불균일성도 최종 장치의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미칩니다. Veteksemicon EPI Susceptor는 정밀한 열역학적 시뮬레이션과 구조 설계를 통해 반응 챔버 내에서 최적의 열장 분포를 달성합니다. 열 전도성이 높은 기판을 선택하고 독특한 표면 처리 공정을 결합하여 고속 회전 및 고온 환경에서도 웨이퍼 표면의 모든 지점의 온도 차이를 매우 작은 범위 내에서 제어할 수 있습니다. 이것이 가져오는 직접적인 가치는 재현성이 뛰어나고 균일성이 뛰어난 배치 간 에피택셜 레이어로, 고성능, 일관성이 뛰어난 전력 칩 제조를 위한 견고한 기반을 마련합니다.

2. 고온에 대한 저항

SiC 에피택셜 공정은 일반적으로 1500°C를 초과하는 온도에서 장시간 작동이 필요하므로 모든 재료에 심각한 문제를 야기합니다. Veteksemicon Susceptor는 특수 처리된 등압 압축 흑연을 사용하여 고온 굴곡 강도와 크리프 저항이 일반 흑연보다 훨씬 뛰어납니다. 수백 시간의 지속적인 고온 열 순환 후에도 당사 제품은 초기 기하학적 구조와 기계적 강도를 유지하여 트레이 변형으로 인한 웨이퍼 뒤틀림, 미끄러짐 또는 공정 캐비티 오염 위험을 효과적으로 방지하여 근본적으로 생산 활동의 연속성과 안전성을 보장합니다.

3. 공정 안정성 극대화

생산 중단과 계획되지 않은 유지 관리는 웨이퍼 제조의 주요 비용 절감 요소입니다. Veteksemicon은 공정 안정성을 Susceptor의 핵심 지표로 간주합니다. 당사의 특허받은 CVD SiC 코팅은 밀도가 높고 다공성이 없으며 거울처럼 매끄러운 표면을 가지고 있습니다. 이는 고온 공기 흐름에서 입자 이탈을 크게 줄일 뿐만 아니라 반응 부산물(예: 다결정 SiC)이 트레이 표면에 접착하는 속도도 크게 느려집니다. 이는 반응 챔버가 더 오랜 기간 동안 깨끗한 상태를 유지할 수 있음을 의미하며, 정기적인 청소와 유지 관리 사이의 간격을 연장하여 전반적인 장비 활용도와 처리량을 향상시킵니다.

4. 서비스 수명 연장

소모품인 서셉터의 교체 빈도는 생산 운영 비용에 직접적인 영향을 미칩니다. Veteksemicon은 "기판 최적화"와 "코팅 강화"라는 이중 기술 접근 ​​방식을 통해 제품 수명을 연장합니다. 고밀도, 저다공성 흑연 기판은 공정 가스에 의한 기판 침투 및 부식을 효과적으로 지연시킵니다. 동시에 두껍고 균일한 SiC 코팅은 견고한 장벽 역할을 하여 고온에서 승화를 크게 억제합니다. 실제 테스트에 따르면 동일한 프로세스 조건에서 Veteksemicon 서셉터는 성능 저하 속도가 느리고 유효 서비스 수명이 길어서 웨이퍼당 운영 비용이 낮아집니다.

5. 생태사슬 검증 승인

나의 라이벌 EPI Susceptor Part의 생태학적 체인 검증은 원자재부터 생산까지 포괄하며, 국제 표준 인증을 통과했으며, 반도체 및 신에너지 분야에서 신뢰성과 지속 가능성을 보장하기 위한 다수의 특허 기술을 보유하고 있습니다.

자세한 기술 사양, 백서 또는 샘플 테스트 준비에 대해서는 기술 지원팀에 문의하여 Veteksemicon이 프로세스 효율성을 향상시킬 수 있는 방법을 알아보세요.

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