솔리드 SiC 포커스 링

6. 주요 응용분야

7. Veteksemi 솔리드 SiC 포커스 링 핵심 장점

우수한 플라즈마 내식성

CF4, O2 및 Cl2와 같은 부식성이 높은 고밀도 플라즈마에 장기간 노출되면 기존 재료는 급속한 마모 및 입자 오염에 취약합니다. 당사의 견고한 SiC 포커스 링은 석영이나 알루미나와 같은 재료보다 부식 속도가 훨씬 낮아 탁월한 내식성을 나타냅니다. 이는 시간이 지나도 매끄러운 표면을 유지하여 부품 마모로 인한 웨이퍼 결함 위험을 크게 줄여 지속적이고 안정적인 대량 생산을 보장한다는 것을 의미합니다.

탁월한 고온 안정성 및 열 관리 성능

반도체 식각 공정에서는 상당한 열이 발생하여 챔버 구성 요소에 급격한 온도 변동이 발생합니다. 당사의 포커스 링은 열팽창 계수가 매우 낮아 균열이나 변형 없이 최대 1600°C의 일시적인 온도를 견딜 수 있습니다. 또한, 고유의 높은 열 전도성은 열을 고르고 빠르게 분산시켜 웨이퍼 가장자리의 온도 분포를 효과적으로 개선하여 성능을 향상시킵니다.전체 웨이퍼에 걸쳐 임계 치수의 균일성과 일관성을 에칭합니다.

탁월한 소재 순도와 구조적 밀도

우리는 탄화규소 원료의 순도(≥99.999%)를 엄격하게 관리하고 소결 공정 중 금속 오염을 제거하여 미량 불순물 제어를 위한 첨단 제조 공정의 엄격한 요구 사항을 충족합니다. 고온 소결을 통해 형성된 치밀한 구조는 기공률이 극히 낮아 공정가스 및 부산물의 침투를 거의 완벽하게 차단합니다. 이는 내부 재료 열화로 인한 성능 저하 및 입자 성장을 방지하여 순수한 프로세스 챔버 환경을 보장합니다.

오래 지속되는 기계적 수명과 포괄적인 비용 효율성

자주 교체해야 하는 기존 소모품에 비해 Veteksemi 솔리드 SiC 포커스 링은 뛰어난 내구성을 제공합니다. 수명 내내 안정적인 성능을 유지하여 교체 주기를 여러 번 연장합니다. 이는 예비 부품 조달 비용을 직접적으로 절감할 뿐만 아니라 유지 관리를 위한 장비 가동 중지 시간을 줄여 기계 활용도를 크게 향상시켜 고객에게 상당한 전체 비용 이점을 제공합니다.

정확한 크기 제어 및 유연한 맞춤 서비스

우리는 소모품에 대한 다양한 기계 및 프로세스의 정확한 요구 사항을 이해합니다. 각 초점 링은 정밀 가공과 엄격한 테스트를 거쳐 ±0.05mm 이내의 중요한 치수 공차를 보장합니다. 또한 당사는 귀하의 특정 공정 요구 사항 및 응용 시나리오에 완벽하게 맞는 맞춤형 크기, 표면 마감(Ra ≤ 0.2μm까지 연마) 및 전도도 조정을 포함한 맞춤형 서비스를 제공합니다.

자세한 기술 사양, 백서 또는 샘플 테스트 준비에 대해서는 기술 지원 팀에 문의하여 Veteksemi가 프로세스 효율성을 향상시킬 수 있는 방법을 알아보십시오.