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SIC 코팅 웨이퍼 홀더
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SIC 코팅 웨이퍼 홀더

Vetek Semiconductor는 중국의 SIC 코팅 웨이퍼 홀더 제품의 전문 제조업체이자 리더입니다. SIC 코팅 웨이퍼 홀더는 반도체 처리에서 에피 택시 공정을위한 웨이퍼 홀더이다. 웨이퍼를 안정화시키고 에피 택셜 층의 균일 한 성장을 보장하는 대체 할 수없는 장치입니다. 추가 상담을 환영합니다.

VEtek 반도체의 SIC 코팅 웨이퍼 홀더는 일반적으로 반도체 처리 중에 웨이퍼를 고정하고지지하는 데 사용됩니다. 고성능입니다웨이퍼 캐리어반도체 제조에 널리 사용됩니다. 표면에 실리콘 카바이드 (sic) 층을 코팅함으로써기판,이 제품은 기판이 부식에서 효과적으로 방지하고 웨이퍼 캐리어의 부식 저항 및 기계적 강도를 향상시켜 가공 공정의 안정성 및 정밀 요구 사항을 보장 할 수 있습니다.


SIC 코팅 웨이퍼 홀더일반적으로 반도체 처리 중에 웨이퍼를 고정하고 지원하는 데 사용됩니다. 반도체 제조에 널리 사용되는 고성능 웨이퍼 캐리어입니다. 층을 코팅하여실리콘 카바이드 (sic)기판의 표면에서, 생성물은 기질이 부식으로부터 효과적으로 방지하고 부식성 및 기계적 강도를 향상시킬 수있다.웨이퍼 캐리어, 처리 프로세스의 안정성 및 정밀 요구 사항을 보장합니다.


실리콘 카바이드 (SIC)의 용융점은 약 2,730 ° C이며 약 120 - 180 w/m · K의 열전도율이 우수합니다. 이 특성은 고온 공정에서 열을 빠르게 소산하고 웨이퍼와 캐리어 사이의 과열을 방지 할 수 있습니다. 따라서, SIC 코팅 웨이퍼 홀더는 일반적으로 실리콘 카바이드 (SIC) 코팅 된 흑연을 기판으로 사용한다.


CVD 공정에 의해 퇴적 된 실리콘 카바이드 (SIC) 코팅의 매우 높은 경도 (약 2,500 HV의 Vickers 경도)와 결합하여 조밀하고 강력한 보호 코팅을 형성 할 수있어 SIC 코팅 웨이퍼 홀더의 내차 저항성을 크게 향상시킬 수 있습니다.


Vetek 반도체의 SIC 코팅 웨이퍼 홀더는 SIC 코팅 흑연으로 만들어졌으며 현대의 반도체 에피 택시 프로세스에서 없어서는 안될 핵심 구성 요소입니다. 그것은 흑연의 탁월한 열전도율 (열전도율이 실온에서 약 100-400 w/m · k)과 기계적 강도와 기계적 강도를 영리하게 결합하고, 실리콘 카바이드의 탁월한 화학적 차단 저항성 및 열 안정성 (SIC의 융점은 약 2,730 ° C입니다).


이 싱글 웨이퍼 디자인 홀더는 정확하게 제어 할 수 있습니다에피 택셜 프로세스고품질의 고성능 반도체 장치를 생산하는 데 도움이되는 매개 변수. 고유 한 구조 설계는 웨이퍼가 전체 프로세스에서 가장 많은주의와 정밀도로 처리되도록하여 에피 택셜 층의 우수한 품질을 보장하고 최종 반도체 제품의 성능을 향상시킵니다.


중국의 선두로SIC 코팅웨이퍼 홀더 제조업체 및 리더 인 Vetek Semiconductor는 장비 및 공정 요구 사항에 따라 맞춤형 제품 및 기술 서비스를 제공 할 수 있습니다.우리는 진심으로 중국의 장기 파트너가되기를 바랍니다..


CVD SIC 필름 결정 구조의 SEM 데이터

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE


CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성

CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성
재산
전형적인 가치
결정 구조
FCC β 상 다결정, 주로 (111) 배향
SIC 코팅 밀도
3.21 g/cm³
SIC 코팅 경도
2500 Vickers 경도 (500g 부하)
곡물 크기
2 ~ 10mm
화학적 순도
99.99995%
열용량
640 J · Kg-1·케이-1
승화 온도
2700 ℃
굽힘 강도
415 MPa RT 4 점
영률
430 gpa 4pt end, 1300 ℃
열전도율
300W · m-1·케이-1
열 팽창 (CTE)
4.5 × 10-6K-1


Vetek 반도체 SIC 코팅 웨이퍼 홀더 프로덕션 상점 :


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