단결정 실리콘을위한 도가니

CZ (Czochralski) 방법에서, 단결정 종자를 용융 다결정 실리콘과 접촉하여 단결정을 성장시킨다. 씨앗은 천천히 회전하는 동안 점차 위로 당겨집니다. 이 과정에서, 상당수의 흑연 부품이 사용되어 실리콘 반도체 제조에서 가장 많은 양의 흑연 구성 요소를 사용하는 방법입니다.

올바른 그림은 CZ 방법을 기반으로 실리콘 단축 제조 용광로의 개략도를 제공합니다.

단일 결정질 실리콘을위한 Vetek 반도체의 도가니는 반도체 결정의 정확한 형성에 중요한 안정되고 제어 된 환경을 제공합니다. 이들은 전자 장치 용 고품질 재료를 생산하는 데 필수적인 Czochralski 공정 및 플로트 존 방법과 같은 고급 기술을 사용하여 단일 결정 실리콘 잉곳을 성장시키는 데 중요한 역할을합니다.

뛰어난 열 안정성, 화학적 부식성 및 최소 열 팽창을 위해 설계된이 도가니는 내구성과 견고성을 보장합니다. 그들은 구조적 무결성 또는 성능을 손상시키지 않고 가혹한 화학 환경을 견딜 수 있도록 설계되어 도가니의 수명을 확장하고 장기간 사용하는 동안 일관된 성능을 유지합니다.

단일 결정 실리콘을위한 Vetek 반도체 도가니의 독특한 조성을 통해 고온 처리의 극한 조건을 견딜 수 있습니다. 이는 반도체 처리에 중요한 탁월한 열 안정성 및 순도를 보장합니다. 조성물은 또한 효율적인 열 전달을 촉진하여 균일 한 결정화를 촉진하고 실리콘 용융물 내의 열 구배를 최소화한다.

✔ 기본 재료 보호:CVD SIC 코팅에피 택셜 프로세스 동안 보호 층으로 작용하여 외부 환경으로 인한 침식 및 손상으로부터 기본 재료를 효과적으로 차폐합니다. 이 보호 측정은 장비의 서비스 수명을 크게 확장합니다.

✔ 우수한 열 전도성: 우리의 CVD SIC 코팅은 뛰어난 열전도율을 가지며, 기본 재료에서 코팅 표면으로의 열을 효율적으로 전달합니다. 이는 에피 택시 동안 열 관리 효율을 향상시켜 장비의 최적의 작동 온도를 보장합니다.

✔ 영화 품질 향상: CVD SIC 코팅은 평평하고 균일 한 표면을 제공하여 필름 성장을위한 이상적인 기초를 만듭니다. 격자 불일치로 인한 결함을 줄이고, 에피 택셜 필름의 결정 성과 품질을 향상 시키며 궁극적으로 성능과 신뢰성을 향상시킵니다.