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PECVD 흑연 보트
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PECVD 흑연 보트

Veteksemicon의 PECVD 흑연 보트는 실리콘 웨이퍼를 효과적으로 간격하고 균일 한 코팅 증착을위한 글로우 방전을 유도함으로써 태양 전지 코팅 공정을 최적화합니다. Veteksemicon의 PECVD 흑연 보트는 첨단 기술과 재료 선택을 통해 실리콘 웨이퍼 품질을 향상시키고 태양 에너지 변환 효율을 높이십시오.

Veteksemicon은 전문 중국 PECVD 흑연 보트 제조업체 및 공급 업체입니다.


Vetek 반도체의 태양 전지 (코팅) PECVD 흑연 보트의 역할은 무엇입니까?


코팅 공정에 의해 생성 된 정상적인 실리콘 웨이퍼의 캐리어로서, 흑연 보트는 구조물에 특정 간격을 가진 많은 보트 웨이퍼를 가지며, 인접한 보트 웨이퍼 사이에는 매우 좁은 공간이 있으며 실리콘 웨이퍼는 빈 도어의 양쪽에 배치됩니다.


PECVD graphite boat assemblyPECVD 흑연 보트 재료 흑연은 우수한 전기 및 열 전도성 특성을 가지기 때문에 AC 전압은 두 개의 인접한 보트에서 묻습니다. 따라서 챔버에 특정 압력과 가스가있을 때 두 개의 인접한 보트가 양성 및 음의 기둥을 형성하여 두 보트 사이에 글로우 배출이 발생할 수 있습니다. SINX 분자는 실리콘 웨이퍼의 표면에 형성되고 증착되어 코팅의 목적을 달성한다.


PECVD 흑연 보트는 일반적으로 고온 및 플라즈마 환경에서 이러한 재료의 안전한 취급 및 운송을 보장하기 위해 실리콘 웨이퍼 또는 기타 재료를 운반하는 운송 업체로 사용됩니다. 예를 들어, 반도체 제조 공정에서 Veteksemicon의 PECVD 흑연 보트는 플라즈마 강화 화학 증기 증착 공정을 위해 설계되었습니다. 흑연 보트는 실리콘 질화물 (SINT) 패권 층 및 저 유전 상수 (저 -K) 필름을 증착하는 역할을한다.


태양 광 분야에서, PECVD 흑연 보트는 실리콘 기반의 박막 태양 전지 (예 : 비정질 실리콘 A-SI : H) 및 PERC 세포 복귀 패시베이션 층을 제조하는데 사용된다. Veteksemicon의 PECVD 흑연 보트는 실리콘 웨이퍼를 효과적으로 간격하고 균일 한 코팅 증착을 달성하기 위해 글로우 방전을 유도함으로써 코팅 공정을 최적화합니다.


더 중요한 것은 Veteksemicon은 맞춤형 제품 및 기술 서비스를 제공 할 수 있으며 실제 프로세스 요구 사항에 따라 다양한 사양의 흑연 보트 제품을 설계 및 제조 할 수 있습니다. 우리는 당신의 장기 파트너가되기를 진심으로 기대합니다.


그리고 PECVD 흑연 보트의 장점은 일반 흑연 보트와 비교하여 클릭하십시오.


등방성 흑연의 기본 물리적 특성 :

등방성 흑연의 물리적 특성
재산 단위 전형적인 가치
벌크 밀도 g/cm³ 1.83
등방성 흑연 경도 HSD 58
전기 저항성 μΩ.m 10
굽힘 강도 MPA 47
압축 강도 MPA 103
인장 강도 MPA 31
영률 GPA 11.8
열 팽창 (CTE) 10-6K-1 4.6
열전도율 W · m-1·케이-1 130
평균 입자 크기 μm 8-10
다공성 % 10
애쉬 콘텐츠 ppm ≤5 (정제 후)


Veteksemicon의 PECVD 흑연 보트 생산 상점 :

SiC Graphite substratePECVD graphite boat testSilicon carbide ceramic processingSemiconductor process equipment


반도체 칩 에피 택시 산업 체인의 개요 :

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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