제품
화학 기상 증착 공정 고체 SIC 에지 링

화학 기상 증착 공정 고체 SIC 에지 링

Vetek 반도체는 항상 고급 반도체 재료의 연구 개발 및 제조에 전념 해 왔습니다. 오늘날 Vetek 반도체는 화학 기증 공정 고체 SIC 에지 링 제품을 크게 진전 시켰으며 고객에게 고도로 맞춤형 솔리드 SIC 에지 링을 제공 할 수 있습니다. 솔리드 SIC 에지 링은 정전기 척과 함께 사용될 때 더 나은 에칭 균일 성과 정확한 웨이퍼 위치를 제공하여 일관되고 신뢰할 수있는 에칭 결과를 보장합니다. 귀하의 문의를 기대하고 서로의 장기 파트너가되기를 기대합니다.

VEtek 반도체 화학 증 증착 공정 고체 SIC 에지 링은 건식 에칭 공정을 위해 특별히 설계된 최첨단 솔루션으로 우수한 성능과 신뢰성을 제공합니다. 우리는 당신에게 고품질 화학 증기 증착 공정 고체 SIC 에지 링을 제공하고 싶습니다.

애플리케이션:

화학 기상 증착 공정 고체 SIC 에지 링은 건식 에칭 응용 분야에 사용되어 공정 제어를 향상시키고 에칭 결과를 최적화합니다. 에칭 프로세스 동안 혈장 에너지를 지시하고 제한하는 데 중요한 역할을하며 정확하고 균일 한 재료 제거를 보장합니다. 우리의 초점 링은 광범위한 드라이 에칭 시스템과 호환되며 산업 전반의 다양한 에칭 프로세스에 적합합니다.


재료 비교 :


CVD 프로세스 솔리드 SIC 에지 링 :


● 재료: 포커싱 링은 고강도 SIC, 고순도 및 고성능 세라믹 재료로 제작됩니다. 화학 증기 증착에 의해 제조된다. 고체 SIC 재료는 탁월한 내구성, 고온 저항성 및 우수한 기계적 특성을 제공합니다.

●  장점: CVD SIC 링은 탁월한 열 안정성을 제공하여 건식 에칭 프로세스에서 발생하는 고온 조건에서도 구조적 무결성을 유지합니다. 경도가 높으면 기계적 스트레스와 마모에 대한 저항을 보장하여 서비스 수명이 연장됩니다. 또한, Solid SIC는 화학적 불활성을 나타내며, 부식으로부터 보호하고 시간이 지남에 따라 성능을 유지합니다.

Chemical Vapor Deposition Process

CVD SIC 코팅 :


●  재료: CVD SIC 코팅은 화학 증기 증착 (CVD) 기술을 사용한 SIC의 박막 증착이다. 코팅은 표면에 SIC 특성을 제공하기 위해 흑연 또는 실리콘과 같은 기판 물질에 적용된다.

●  비교: CVD SIC 코팅은 복잡한 모양 및 조정 가능한 필름 특성에 대한 적합성 증착과 같은 몇 가지 장점을 제공하지만 Solid SIC의 견고성과 성능과 일치하지 않을 수 있습니다. 코팅 두께, 결정 구조 및 표면 거칠기는 CVD 공정 파라미터에 따라 달라질 수 있으며, 코팅의 내구성과 전반적인 성능에 잠재적으로 영향을 미칩니다.


요약하면, Vetek 반도체 솔리드 SIC 포커싱 링은 건식 에칭 애플리케이션을위한 탁월한 선택입니다. 고체 SIC 재료는 고온 저항성, 탁월한 경도 및 화학적 불활성을 보장하여 신뢰할 수 있고 오래 지속되는 솔루션이됩니다. CVD SIC 코팅은 증착의 유연성을 제공하는 반면, CVD SIC 링은 건식 에칭 프로세스를 요구하는 데 필요한 타의 추종을 불허하는 내구성과 성능을 제공하는 데 탁월합니다.


견고한 SIC의 물리적 특성


견고한 SIC의 물리적 특성
밀도 3.21 g/cm3
전기 저항성 102 ω/cm
굽힘 강도 590 MPA (6000kgf/cm2)
영률 450 GPA (6000kgf/mm2)
비커스 경도 26 GPA (2650kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000 ℃) 4.0 x10-6/케이
열전도율 (RT) 250 w/mk


Vetek 반도체 CVD 프로세스 솔리드 SIC 에지 링 프로덕션 상점

CVD Process Solid SiC Ring Production Shop


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