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SIC 코팅 된 흑연 배럴 감수자
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SIC 코팅 된 흑연 배럴 감수자

Vetek 반도체 SIC 코팅 흑연 배럴 감수자는 반도체 에피 택시 공정을 위해 설계된 고성능 웨이퍼 트레이로, 우수한 열전도율, 고온 및 화학 저항, 고급 표면 및 생산 효율을 향상시키기위한 맞춤형 옵션을 제공합니다. 추가 문의를 환영합니다.

Vetek 반도체 SIC 코팅 흑연 배럴 감수자는 특히 LPE 반응기에서 반도체 에피 택시 프로세스를 위해 특별히 설계된 고급 솔루션입니다. 이 고도로 효율적인 웨이퍼 트레이는 반도체 재료의 성장을 최적화하도록 설계되어 까다로운 제조 환경에서 탁월한 성능과 신뢰성을 보장합니다. 


Veteksemi의 흑연 배럴 감수자 제품은 다음과 같은 뛰어난 장점이 있습니다.


고온 및 화학 저항 : 고온 응용의 엄격함을 견딜 수 있도록 제조 된 SIC 코팅 배럴 감수기는 열 응력 및 화학적 부식에 대한 현저한 저항성을 나타냅니다. 그것의 SIC 코팅은 흑연 기질을 산화 및 가혹한 가공 환경에서 발생할 수있는 다른 화학 반응으로부터 보호한다. 이 내구성은 제품의 수명을 연장 할뿐만 아니라 교체 빈도를 줄여 운영 비용이 낮아지고 생산성 향상에 기여합니다.


탁월한 열전도율 : SIC 코팅 흑연 배럴 감수자의 눈에 띄는 특징 중 하나는 우수한 열전도율입니다. 이 특성은 웨이퍼 전체에 걸쳐 균일 한 온도 분포를 허용하며, 고품질 에피 택셜 층을 달성하는 데 필수적입니다. 효율적인 열전달은 열 구배를 최소화하여 반도체 구조의 결함을 유발하여 에피 택시 공정의 전체 수율 및 성능을 향상시킬 수 있습니다.


고순도 표면 : ​​High-PuCVD SIC 코팅 배럴 감수자의 Rity 표면은 처리되는 반도체 재료의 무결성을 유지하는 데 중요합니다. 오염 물질은 반도체의 전기적 특성에 악영향을 줄 수있어 기질의 순도가 성공적인 에피 택시에서 중요한 요소가 될 수 있습니다. 정제 된 제조 공정을 통해 SIC 코팅 표면은 최소한의 오염을 보장하여 더 나은 품질의 결정 성장과 전반적인 장치 성능을 촉진합니다.


반도체 에피 택시 프로세스의 응용

SiC Coated Graphite Barrel Susceptor Working Schematic


SIC 코팅 된 흑연 배럴 감수체의 1 차 적용은 LPE ​​반응기 내에 있으며, 여기서 고품질 반도체 층의 성장에 중추적 인 역할을한다. 최적의 열 분포를 촉진하면서 극한 조건에서 안정성을 유지하는 능력은 고급 반도체 장치에 중점을 둔 제조업체의 필수 구성 요소입니다. 이 감수자를 활용함으로써 회사는 고급 반도체 재료 생산에서 성능이 향상되어 최첨단 기술 개발을위한 길을 열어 줄 수 있습니다.


Veteksemi는 오랫동안 반도체 산업에 고급 기술 및 제품 솔루션을 제공하기 위해 노력해 왔습니다. Vetek Semiconductor의 SiC 코팅 된 흑연 배럴 감수기는 특정 응용 프로그램 및 요구 사항에 맞게 맞춤화 된 맞춤형 옵션을 제공합니다. Vetek Semiconductor는 치수를 수정하거나 특정 열 특성 향상 또는 특수 프로세스에 고유 한 기능을 추가하든 고객 요구를 충족시키는 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있습니다. 우리는 진심으로 중국에서 장기적인 파트너가되기를 기대합니다.


CVD SIC 코팅 필름 결정 구조

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE


CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성


CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성
재산
전형적인 가치
결정 구조
FCC β 상 다결정, 주로 (111) 배향
코팅 젠더
3.21 g/cm³
SIC 코팅 경도
2500 Vickers 경도 (500g 부하)
곡물 크기
2 ~ 10mm
화학적 순도
99.99995%
열용량
640 J · Kg-1·케이-1
승화 온도
2700 ℃
굽힘 강도
415 MPa RT 4 점
영률
430 gpa 4pt end, 1300 ℃
열전도율
300W · m-1·케이-1
열 팽창 (CTE)
4.5 × 10-6K-1


Vetek 반도체 SIC 코팅 흑연 배럴 감수자 생산 상점


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