CVD SIC 초점 링

현대 전자 장치 및 정보 기술의 기초로서, 반도체 기술은 오늘날 사회의 필수 부분이되었습니다. 스마트 폰에서 컴퓨터, 통신 장비, 의료 장비 및 태양 전지에 이르기까지 거의 모든 현대 기술은 반도체 장치의 제조 및 적용에 의존합니다.

전자 장치의 기능적 통합 및 성능에 대한 요구 사항이 계속 증가함에 따라 반도체 프로세스 기술도 지속적으로 발전하고 개선되고 있습니다. 반도체 기술의 핵심 링크로서, 에칭 프로세스는 장치의 구조와 특성을 직접 결정합니다.

에칭 프로세스는 반도체 표면의 재료를 정확하게 제거하거나 조정하여 원하는 구조 및 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. 이러한 구조는 반도체 장치의 성능 및 기능을 결정합니다. 에칭 프로세스는 고밀도, 고성능 통합 회로 (ICS)를 제조하기위한 기초 인 나노 미터 수준 정밀도를 달성 할 수 있습니다.

CVD SIC 포커스 링은 건식 에칭의 핵심 구성 요소이며, 주로 혈장 표면에 더 높은 밀도와 에너지를 갖도록 플라즈마를 집중시키는 데 사용됩니다. 가스를 고르게 분배하는 기능이 있습니다. Vetek 반도체는 CVD 공정을 통해 층에 의해 Sic 층을 성장시키고 마지막으로 CVD SIC 포커스 링을 얻습니다. 준비된 CVD SIC 포커스 링은 에칭 프로세스의 요구 사항을 완벽하게 충족시킬 수 있습니다.

CVD SIC 포커스 링은 기계적 특성, 화학적 특성, 열전도율, 고온 저항, 이온 에칭 저항 등이 우수합니다.

● 높은 밀도는 에칭 부피를 줄입니다

● 높은 밴드 갭과 탁월한 단열재

● 높은 열전도율, 낮은 팽창 계수 및 열 충격 저항

● 높은 탄력성과 우수한 기계 충격 저항

● 높은 경도, 내마모성 및 부식 저항

Vetek 반도체는 중국에서 주요 CVD SIC 포커스 링 처리 기능을 보유하고 있습니다. 한편 Vetek Semiconductor의 성숙한 기술 팀 및 영업 팀은 고객에게 가장 적합한 포커스 링 제품을 제공하도록 도와줍니다. Vetek 반도체를 선택한다는 것은CVD 실리콘 카바이드 혁신.

품질, 성능 및 고객 만족도에 중점을 두어 반도체 산업의 엄격한 요구를 충족 할뿐만 아니라 충족하는 제품을 제공합니다. 고급 CVD 실리콘 카바이드 솔루션을 사용하여 더 큰 효율성, 신뢰성 및 성공을 달성하도록 도와 드리겠습니다.

CVD SIC 필름의 SEM 데이터

CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성

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