웨이퍼 캐리어 트레이

공장에서 웨이퍼 캐리어 트레이를 구입하도록 안심할 수 있습니다.

Vetek Semiconductor는 주로 3세대 반도체 SiC-CVD 장비용 웨이퍼 캐리어 트레이와 같은 CVD SiC 코팅 흑연 부품을 제공하며 업계에 첨단적이고 경쟁력 있는 생산 장비를 제공하는 데 전념하고 있습니다. SiC-CVD 장비는 탄화규소 기판 위에 균질한 단결정 박막 에피택시층을 성장시키는 데 사용되며, SiC 에피택셜 시트는 주로 쇼트키 다이오드, IGBT, MOSFET 및 기타 전자소자와 같은 전력소자 제조에 사용됩니다.

장비는 공정과 장비를 밀접하게 결합합니다. SIC-CVD 장비는 높은 생산 능력, 6/8 인치 호환성, 경쟁 비용, 여러 용광로의 지속적인 자동 성장 제어, 낮은 결함 속도, 유지 보수 편의성 및 온도 필드 제어 제어의 설계를 통해 명백한 이점이 있습니다. Vetek 반도체가 제공하는 SIC 코팅 웨이퍼 캐리어 트레이와 결합하여 장비의 생산 효율을 향상시키고 수명을 연장하며 비용을 통제 할 수 있습니다.

Vetek 반도체의 웨이퍼 캐리어 트레이는 주로 고순도, 우수한 흑연 안정성, 높은 가공 정밀도, CVD SIC 코팅, 고온 안정성을 가지고 있습니다. 실리콘-탄화물 코팅은 고온 안정성이 뛰어나고 매우 고온 환경에서 열과 화학적 부식으로부터 기질을 보호합니다. .

경도 및 내마모성 : 실리콘-탄화물 코팅은 일반적으로 경도가 높기 때문에 내마모성이 뛰어나고 기질의 서비스 수명을 확장합니다.

부식 저항성 : 실리콘 카바이드 코팅은 많은 화학 물질에 내식성이 있으며 기질을 부식 손상으로부터 보호 할 수 있습니다.

마찰 계수 감소: 탄화규소 코팅은 일반적으로 마찰 계수가 낮아 마찰 손실을 줄이고 부품의 작업 효율성을 향상시킬 수 있습니다.

열전도율 : 실리콘 카바이드 코팅은 일반적으로 우수한 열전도율을 가지므로 기판이 더 나은 열을 분산시키고 성분의 열 소산 효과를 향상시키는 데 도움이됩니다.

일반적으로 CVD 실리콘 카바이드 코팅은 기판에 대한 다중 보호 기능을 제공하고 서비스 수명을 연장하며 성능을 향상시킬 수 있습니다.

CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성:

생산 상점 :

반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요: