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VeTek Semiconductor는 초순수 탄화규소 코팅 제품 생산을 전문으로 하며, 이러한 코팅은 정제된 흑연, 세라믹 및 내화 금속 부품에 적용되도록 설계되었습니다.
당사의 고순도 코팅은 주로 반도체 및 전자 산업에 사용되는 것을 목표로 합니다. 이는 웨이퍼 캐리어, 서셉터 및 발열체를 위한 보호층 역할을 하며 MOCVD 및 EPI와 같은 공정에서 발생하는 부식성 및 반응성 환경으로부터 이들을 보호합니다. 이러한 프로세스는 웨이퍼 처리 및 장치 제조에 필수적입니다. 또한 당사의 코팅은 고진공, 반응성 및 산소 환경에 직면하는 진공로 및 샘플 가열 분야에 매우 적합합니다.
VeTek Semiconductor에서는 고급 기계 공장 기능을 갖춘 포괄적인 솔루션을 제공합니다. 이를 통해 흑연, 세라믹 또는 내화 금속을 사용하여 기본 구성 요소를 제조하고 SiC 또는 TaC 세라믹 코팅을 사내에서 적용할 수 있습니다. 또한 고객이 제공하는 부품에 대한 코팅 서비스를 제공하여 다양한 요구 사항을 충족할 수 있는 유연성을 보장합니다.
당사의 탄화규소 코팅 제품은 Si 에피택시, SiC 에피택시, MOCVD 시스템, RTP/RTA 공정, 에칭 공정, ICP/PSS 에칭 공정, 청색 및 녹색 LED, UV LED 및 원자외선을 포함한 다양한 LED 유형의 공정에 널리 사용됩니다. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI 등의 장비에 적용되는 LED 등.
CVD SiC 코팅의 기본 물리적 특성 | |
재산 | 일반적인 값 |
결정 구조 | FCC β상 다결정, 주로 (111) 방향 |
SiC 코팅 밀도 | 3.21g/cm³ |
SiC 코팅경도 | 비커스 경도 2500(500g 하중) |
입자 크기 | 2~10μm |
화학적 순도 | 99.99995% |
열용량 | 640J·kg-1·케이-1 |
승화 온도 | 2700℃ |
굴곡강도 | 415MPa RT 4점 |
영률 | 430 Gpa 4pt 벤드, 1300℃ |
열전도율 | 300W·m-1·케이-1 |
열팽창(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
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