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SIC 코팅 수집기 센터
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SIC 코팅 수집기 센터

Vetek Semiconductor는 중국의 CVD SIC 코팅에 대한 평판이 좋은 제조업체이며 Aixtron G5 MoCVD 시스템의 최첨단 SIC 코팅 수집기 센터를 제공합니다. 이 SIC 코팅 수집기 센터는 고순도 흑연으로 세 심하게 설계되었으며 고급 CVD SIC 코팅을 자랑하여 고온 안정성, 부식 저항, 고순도를 보장합니다.

Vetek 반도체 SIC 코팅 수집기 센터는 반도체 EPI 공정 생산에 중요한 역할을합니다. 그것은 에피 택셜 반응 챔버에서 가스 분포 및 제어에 사용되는 주요 구성 요소 중 하나입니다.SIC 코팅그리고TAC 코팅우리 공장에서.


SIC 코팅 수집기 센터의 역할은 다음과 같습니다.


● 가스 분포: SIC 코팅 수집기 센터는 에피 택셜 반응 챔버에 다른 가스를 도입하는 데 사용됩니다. 특정 에피 택셜 성장 요구를 충족시키기 위해 원하는 위치에 다른 가스를 분배 할 수있는 여러 인트와 아울렛이 있습니다.

● 제어 가스: SIC 코팅 수집기 센터는 밸브 및 유량 제어 장치를 통해 각 가스의 정확한 제어를 달성합니다. 이 정확한 가스 제어는 에피 택셜 성장 공정의 성공에 필수적이며, 원하는 가스 농도 및 유량을 달성하여 필름의 품질과 일관성을 보장합니다.

● 균일 성: 중앙 가스 수집 링의 설계 및 레이아웃은 가스의 균일 한 분포를 달성하는 데 도움이됩니다. 합리적인 가스 흐름 경로 및 분포 모드를 통해, 가스는 필름의 균일 한 성장을 달성하기 위해 에피 택셜 반응 챔버에서 균일하게 혼합된다.


Epitaxial Products의 제조에서 Sic Coating Collector Center는 필름의 품질, 두께 및 균일성에 중요한 역할을합니다. 적절한 가스 분포 및 제어를 통해 SIC 코팅 수집기 센터는 안정성과 일관성을 보장 할 수 있습니다.에피 택셜 성장 과정, 고품질 에피 택셜 필름을 얻기 위해.


흑연 컬렉터 센터와 비교하여 SIC 코팅 수집기 센터는 개선 된 열 전도도, 향상된 화학적 불활성 및 우수한 부식 저항입니다. 실리콘 카바이드 코팅은 흑연 물질의 열 관리 능력을 크게 향상시켜 온도 균일 성을 향상시키고 에피 탁상 공정에서 일관된 필름 성장을 초래합니다. 또한 코팅은 화학적 부식에 저항하는 보호 층을 제공하여 흑연 성분의 수명을 연장합니다. 전반적으로실리콘 카바이드 코팅흑연 재료는 우수한 열전도율, 화학적 불활성 및 부식 저항을 제공하여 에피 택셜 프로세스에서 안정성 향상 및 고품질 필름 성장을 보장합니다.


CVD SIC 필름 크리스탈 구조 :

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성

CVD SIC 코팅의 기본 물리적 특성
재산 전형적인 가치
결정 구조 FCC β 상 다결정, 주로 (111) 배향
SIC 코팅 밀도 3.21 g/cm³
CVD SIC 코팅 경도 2500 Vickers 경도 (500g 부하)
곡물 크기 2 ~ 10mm
화학적 순도 99.99995%
열용량 640 J · Kg-1·케이-1
승화 온도 2700 ℃
굽힘 강도 415 MPa RT 4 점
영률 430 gpa 4pt end, 1300 ℃
열전도율 300W · m-1· K-1
열 팽창 (CTE) 4.5 × 10-6K-1


반도체SIC 코팅 수집기 센터생산 상점

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