알루미나 세라믹 진공 척

알루미나 세라믹 진공 척은 반도체 처리에서 에피 택셜 프로세스를위한 웨이퍼 홀더입니다. 웨이퍼를 안정화시키고 에피 택셜 층의 균일 한 성장을 보장하는 핵심 도구입니다. 그것은와 같은 에피 택셜 장비에 널리 사용됩니다mocvd그리고LPCVD.

Vetek 반도체 알루미나 세라믹 진공 척은 반도체 제조의 웨이퍼 가늘고 연삭 단계에서 중요한 역할을합니다. 이 단계는 정확하게 두께를 감소시키는 것을 포함합니다웨이퍼 기판반도체 장치의 효율과 수명을 향상시키는 데 필수적인 칩 열 소산을 향상시킵니다.

다중 웨이퍼 크기와 호환됩니다: Vetek 반도체 알루미나 세라믹 진공 척은 2, 3, 4, 5, 6, 8 및 12 인치를 포함한 광범위한 웨이퍼 크기를 지원하도록 설계되었습니다. 이 적응성은 다양한 반도체 생산 환경에 적합하여 다양한 웨이퍼 크기에 걸쳐 일관되고 신뢰할 수있는 성능을 보장합니다.

우수한 재료 구성: Alumina Ceramic 진공 척의 기초는 Ultra-Pure 99.9999% Alumina (al)로 만들어졌습니다.₂O₃), 화학 공격 및 열 안정성에 대한 탁월한 저항성을 제공합니다. 척 표면은 다공성으로 만들어졌습니다실리콘 카바이드 (sic). 다공성 세라믹 재료는 조밀하고 균일 한 구조를 가지므로 내구성과 성능을 향상시킵니다.

의 이점다공성 세라믹 기술：

물질 순도와 내구성: Alumina Ceramic Vacuum Chuck은 99.99% Pure Alumina로 제작 된 화학 공격에 저항하고 우수한 열 안정성을 제공하여 매우 까다로운 제조 환경에 이상적입니다.

최적의 다공성 및 공기 투과성: 균등하게 분산 된 미세 기공은 우수한 공기 투과성 및 균일 흡착력을 제공하여 부드럽고 일관된 작동을 초래합니다.

평탄도와 평행을 향상시킵니다: 미세 다공성 알루미나 세라믹 진공 척은 탁월한 평탄도와 평행을 가지고있어 정확한 웨이퍼 처리 및 안정성을 보장합니다.

맞춤형 서비스 기능: Veteksemi는 둥근, 정사각형, 링 및 기타 디자인을 포함한 다양한 사용자 정의 가능한 모양을 3mm ~ 10mm 범위의 두께로 제공 할 수 있습니다. 이 사용자 정의는 우리의 Alumina Ceramic 진공 척이 다양한 반도체 제조 공정의 특정 요구를 충족 시키며 확실히 당신의 이상적인 선택입니다.

Vetek Semiconductor는 반도체 산업에 고급 기술 및 제품 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며, 우리는 중국에서 장기적인 파트너가되기를 진심으로 희망합니다.

그만큼화학적 공식알루미나 세라믹：

반도체알루미나 세라믹 진공 척 상점: