다공성 SiC
다공성 sic 세라믹 척
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다공성 sic 세라믹 척

Vetek Semiconductor는 웨이퍼 처리 기술, 전송 및 기타 링크에 널리 사용되는 다공성 SIC 세라믹 척을 제공하며, 본딩, 스크라이브, 패치, 연마 및 기타 링크, 레이저 처리에 적합합니다. 우리의 다공성 SIC 세라믹 척은 매우 강력한 진공 흡착, 높은 평탄성 및 고순도가 대부분의 반도체 산업의 요구를 충족시켜 우리를 조사하기 위해 자극을받습니다.

Vetek Semiconductor의 다공성 SIC 세라믹 척은 많은 고객들로부터 호평을 받았으며 많은 국가에서 좋은 명성을 얻었습니다. Vetek 반도체 다공성 세라믹 진공 척은 특징적인 설계 및 실용적인 성능 및 경쟁 가격을 가지고 있습니다. 다공성 세라믹 진공 척에 대한 자세한 내용은 저희에게 연락하십시오.

다공성 SIC 세라믹 척은 또한 미생물 진공 컵이라고도하며, 일반적인 다공성은 2 ~ 100um 크기로 조정될 수 있으며, 많은 수의 연결 또는 폐쇄 된 세라믹 재료를 생성하기 위해 재료의 고온 소결을 통해 균일 한 고체 또는 진공 구체를 생성하는 특수 나노 분말 제조 공정을 나타냅니다. 특수한 구조를 통해 고온 저항, 내마모성, 화학적 차단 저항, 높은 기계적 강도, 쉬운 재생 및 탁월한 열 충격 저항 등의 장점을 가지고 있으며, 이는 고온 여과 재료, 촉매 운반자, 연료 전지의 다공성 전극, 분리 된 구성 요소, 분리 구성 요소, 생물 세포 등, 화학적 산업, 환경 보호, 환경, 에너지를 보여줍니다. 생화학 및 기타 분야.


다공성 SIC 세라믹 척은 반도체 웨이퍼 처리 및 전송 프로세스에서 광범위한 응용을 찾습니다. 본딩, 스크라이브, 다이 부착, 연마 및 레이저 가공과 같은 작업에 적합합니다.



우리의 장점 :

사용자 정의 : 우리는 웨이퍼의 모양과 재료와 특정 장비 및 운영 조건을 완벽하게 일치하도록 구성 요소를 조정합니다.

치수 정밀도 : 정확한 사양을 충족시키기 위해 치수 정밀도를 달성 할 수 있습니다. 예를 들어, 3μm 미만의 평탄도가있는 8 인치 웨이퍼와 평탄도가 5μm 미만인 12 인치 웨이퍼 용 척을 생산할 수 있습니다.

기공 크기 및 다공성 : 우리의 다공성 세라믹 척은 20-50μm의 기공 크기와 35-55%사이의 다공성 수준을 특징으로하여 다양한 처리 응용 분야에서 최적의 성능을 보장합니다.

평가를 위해 단일 조각이 필요한지 또는 여러 워크 피스에 대한 맞춤형 척이 있든, 우리는 정밀도 및 정밀한 및 재료 요구 사항을 충족하는 데 전념하고 있습니다.

우수. 추가 문의를 받거나 귀하의 특정 요구에 대해 논의하려면 언제든지 저희에게 연락하십시오.


현미경 하의 다공성 SIC 세라믹 척 제품 사진



다공성 SIC 세라믹 특성 목록
단위 다공성 sic 세라믹
다공성 하나 10-30
밀도 g/cm3 1.2-1.3
하나 2.5-3
흡입 값 KPA -45
굽힘 강도 MPA 30
귀납 1MHz 33
열 전달 속도 w/(m · k) 60-70


다공성 SIC 세라믹 척 생산 상점 :

VeTek Semiconductor Production Shop


반도체 칩 에피 택시 산업 체인의 개요 :

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

핫 태그: 다공성 sic 세라믹 척
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