다공성 SiC
다공성 세라믹 진공 척
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다공성 세라믹 진공 척

Vetek Semiconductor의 다공성 세라믹 진공척은 탄화규소 세라믹(SiC) 소재로 제작되어 내열성, 화학적 안정성 및 기계적 강도가 뛰어납니다. 반도체 공정에 있어서 없어서는 안 될 핵심 부품입니다. 추가 문의를 환영합니다.

Vetek Semiconductor는 실리콘 웨이퍼 또는 기타 기판을 진공 흡착으로 고정 및 고정하여 처리 중에 이러한 재료가 이동하거나 휘어지지 않도록 하는 데 사용되는 다공성 세라믹 진공 척의 중국 제조업체입니다. Vetek Semiconducto는 가격 대비 성능이 뛰어난 고순도 다공성 세라믹 진공 척 제품을 제공할 수 있습니다. 문의를 환영합니다.

Vetek Semiconductor는 현대 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 특별히 설계된 일련의 우수한 다공성 세라믹 진공 척 제품을 제공합니다. 이 캐리어는 청결도, 평탄도 및 맞춤형 가스 경로 구성에서 뛰어난 성능을 보여줍니다.


비교할 수 없는 청결함:

불순물 제거: 다공성 세라믹 진공척 하나하나를 1200°C에서 1.5시간 동안 소결하여 불순물을 완전히 제거하고 표면이 새것처럼 깨끗합니다.

진공 포장: 깨끗한 상태를 유지하기 위해 다공성 세라믹 진공척을 진공 포장하여 보관 및 운송시 오염을 방지합니다.

우수한 평탄도:

고체 웨이퍼 흡착: Porous Ceramic Vacuum Chuck은 웨이퍼 장착 전후 각각 -60kPa, -70kPa의 흡착력을 유지하여 웨이퍼를 견고하게 흡착시켜 고속 전송시 탈락을 방지합니다.

정밀 가공: 캐리어 뒷면을 정밀 가공하여 완전 평면을 확보하여 안정적인 진공 밀봉을 유지하고 누출을 방지합니다.

맞춤형 디자인:

고객 중심: Vetek Semiconductor는 고객과 긴밀히 협력하여 특정 공정 요구 사항을 충족하는 가스 경로 구성을 설계하여 효율성과 성능을 최적화합니다.

엄격한 품질 테스트:

Vetek은 품질을 보장하기 위해 다공성 SiC 진공 척의 각 부품에 대해 포괄적인 테스트를 수행합니다.

산화 테스트: SiC 진공 척은 실제 산화 과정을 시뮬레이션하기 위해 무산소 환경에서 900°C까지 빠르게 가열됩니다. 이에 앞서 캐리어는 최적의 성능을 보장하기 위해 1100°C에서 어닐링됩니다.

금속 잔류물 테스트: 오염을 방지하기 위해 담체를 1200°C의 고온으로 가열하여 석출된 금속 불순물이 있는지 검출합니다.

진공 테스트: Porous SiC 진공 척은 웨이퍼 유무에 따른 압력차를 측정하여 진공 밀봉 성능을 엄격하게 테스트합니다. 압력차는 ±2kPa 이내로 조절되어야 합니다.


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다공성 세라믹 진공 척 특성표:

Silicon Carbide Porous Ceramics Characteristics Table


VeTek Semiconductor 다공성 SiC 진공 척 매장:


VeTek Semiconductor Production Shop



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