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TAC 코팅 된 다공성 흑연
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TAC 코팅 된 다공성 흑연

TAC 코팅을 갖는 다공성 흑연은 Vetek 반도체가 제공하는 고급 반도체 처리 재료이다. TAC 코팅 된 다공성 흑연은 우수한 열전도율 및 가스 투과성과 다공성 흑연 및 탄탈 룸 카바이드 (TAC) 코팅의 장점을 결합합니다. Vetek 반도체는 경쟁력있는 가격으로 고품질 제품을 제공하기 위해 노력하고 있습니다.

Veteksemicon은 주로 생산하는 중국 제조업체 및 공급 업체입니다다공성 흑연수년간의 경험으로 TAC 코팅. 당신과 비즈니스 관계를 구축하기를 바랍니다.


Veteksemicon은 TAC 코팅 재료, 다공성 흑연의 조합을 갖는 다공성 흑연이라고하는 혁신적인 반도체 제조 재료를 출시했습니다.탄탈 룸 카바이드 (TAC) 코팅. 이 재료는 뛰어난 투과성과 높은 다공성을 제공하여 최대 75%의 기록 산업에 도달합니다. 고급 TAC 코팅은 부식과 내마모성을 향상시킬뿐만 아니라 추가 보호 층을 제공하여 처리 및 부식 문제를 효과적으로 해결합니다.


고온 환경에서 흑연, 다공성 흑연 및 탄탈 룸 탄화물 분말과 같은 도가니 재료의 부적절한 사용은 탄소 포함 증가와 같은 결함으로 이어질 수 있습니다. 때때로, 다공성 흑연의 투과성은 불충분 할 수 있으며, 침투성을 향상시키기 위해 추가 구멍이 필요할 수있다. 높은 투과성을 갖는 다공성 흑연은 처리, 분말 제거 및 에칭 챌린지에 직면한다.


Veteksemicon은 탄탈 룸 카바이드 코팅을 갖는 다공성 흑연, 신규 한 SiC 크리스탈 성장 열전자 재료를 도입합니다. 탄탈 룸 탄화물은 높은 강도와 ​​경도로 유명하지만 다공성과 순도로 다공성 탄탈륨을 만드는 것은 중요한 도전입니다. Vetek 반도체는 최대 다공성이 75%에 도달하여 혁신적으로 개발 된 다공성 탄탈 룸 카바이드를 사용하여 업계의 새로운 표준을 설정했습니다.


TAC- 코팅 된 다공성 흑연의 사용은 반도체 제조 공정의 효율과 품질을 크게 향상시킬 수 있습니다. 우수한 투과성은 고온 조건 하에서 재료의 안정성을 보장하고 탄소 불순물의 증가를 효과적으로 제어합니다. 동시에, 고 다공성 설계는 순수한 성장 환경을 유지하기 위해 더 나은 가스 확산 성능을 제공합니다.


우리는 고객에게 우수한 다공성 흑연을 제공하기 위해 노력하고 있습니다.TAC 코팅반도체 제조 산업의 요구를 충족시키는 재료. 연구 실험실이든 산업 생산에서든이 고급 자료는 탁월한 성능과 신뢰성을 달성하는 데 도움이 될 수 있습니다. 이 혁신적인 자료에 대한 자세한 내용은 오늘 저희에게 연락하여 반도체 제조를 주도하기 위해 혁신의 여정을 시작하십시오.


PVT 방법 SIC 결정 성장 :

PVT method SiC Crystal Growth working diagram

TAC 코팅 된 다공성 흑연의 생성물 파라미터

탄탈 룸 탄화물 코팅의 물리적 특성
코팅 밀도 14.3 (g/cm³)
특정 방사율 0.3
열 팽창 계수 6.3 10-6/케이
경도 (HK) 2000 hk
저항 1 × 10-5옴*cm
열 안정성 <2500 ℃
흑연 크기 변화 -10 ~ -20UM
코팅 두께 ≥20UM 일반 값 (35um ± 10um)

TAC 코팅 생산을 갖는 Vetek 반도체 다공성 흑연 가게

sic coated Graphite substratePorous Graphite with TaC Coated testSilicon carbide ceramic processSemiconductor process equipment



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