CVD SiC 코팅 RTP 서셉터

특징

• 열 균일성 – 이 소재의 높은 열 확산성은 빠르고 공간적으로 균일한 열 전달을 가능하게 하여 반복 가능한 웨이퍼 온도 프로파일을 지원합니다.
• 높은 순도 수준 – CVD SiC 코팅은 99.99995%의 순도를 달성하여 중요한 공정 단계에서 이동성 이온 및 금속 오염 위험을 효과적으로 줄입니다.
• 화학적 내구성 – 코팅은 고온에서 할로겐 기반 가스를 포함한 부식성 물질에 대한 강한 저항성을 나타냅니다. 연장된 서비스 간격 – 강화된 산화 및 내마모성은 교체 횟수를 줄이고 공구 가동 중지 시간을 줄여줍니다.
• 설계 유연성 – 특정 RTP 챔버 형상 및 웨이퍼 크기에 맞게 치수 및 구성을 조정할 수 있습니다.

응용

• 급속열처리(RTP)
• 급속 열 어닐링(RTA)
• Dopant 활성화l 산화 및 어닐링 단계
• 집적회로(IC) 제조
• 전력기기 제작기술

명세서

VeTek Semiconductor를 선택하는 이유는 무엇입니까?

· 반도체 등급 요구 사항을 위해 특별히 개발된 사내 CVD SiC 코팅 공정입니다.

· 흑연 정제, 정밀 가공, 코팅 두께 제어 기능이 통합되어 있습니다.

· 배치 생산 전반에 걸쳐 입증된 코팅 접착력 및 층 균일성.

· 주요 RTP 도구 플랫폼과 호환되는 맞춤형 서셉터 설계에 대한 엔지니어링 지원.

· 엄격한 입고 자재 검사, 공정 중 모니터링, 최종 적격성 평가 테스트를 통해 배치 간 일관성을 보장합니다.