실리콘 카바이드 세라믹

VeTek Semiconductor는 반도체 처리 분야의 혁신적인 파트너입니다. 광범위한 반도체급 실리콘 카바이드 세라믹 재료 조합, 부품 제조 역량 및 응용 엔지니어링 서비스 포트폴리오를 통해 당사는 귀사가 심각한 과제를 극복하도록 도울 수 있습니다. 엔지니어링 기술 실리콘 카바이드 세라믹은 탁월한 재료 성능으로 인해 반도체 산업에 널리 적용됩니다. VeTek Semiconductor의 초순수 탄화규소 세라믹은 반도체 제조 및 가공의 전체 주기에 걸쳐 자주 사용됩니다.

확산 및 LPCVD 공정

VeTek Semiconductor는 다음을 포함하여 배치 확산 및 LPCVD 요구 사항을 위해 특별히 설계된 엔지니어링 세라믹 부품을 제공합니다.

• 배플 및 홀더
• 주사기
• 라이너 및 프로세스 튜브
• 실리콘 카바이드 캔틸레버 패들
• 웨이퍼 보트 및 받침대

SiC 캔틸레버 패들 SiC 공정 튜브 실리콘 카바이드 프로세스 튜브 SiC 수직형 웨이퍼 보트 SiC 수평형 웨이퍼 보트 SiC 수평형 쿼어 웨이퍼 보트 SiC LPCVD 웨이퍼 보트 SiC 수평 플레이트 보트 SiC 세라믹 씰 링

에칭 공정 구성 요소

다음을 포함하여 엄격한 플라즈마 식각 공정을 위해 설계된 고순도 구성 요소를 사용하여 오염과 예정되지 않은 유지 관리를 최소화합니다.

초점 링

노즐

방패

샤워헤드

창문 / 뚜껑

기타 맞춤 구성요소

급속 열 처리 및 에피택셜 공정 구성 요소

VeTek Semiconductor는 반도체 산업의 고온 열 처리 응용 분야에 맞춰진 고급 소재 부품을 제공합니다. 이러한 응용 분야에는 RTP, Epi 공정, 확산, 산화 및 어닐링이 포함됩니다. 당사의 기술 세라믹은 열충격을 견디도록 설계되어 안정적이고 일관된 성능을 제공합니다. VeTek Semiconductor의 부품을 통해 반도체 제조업체는 효율적이고 고품질의 열 처리를 달성하여 반도체 생산의 전반적인 성공에 기여할 수 있습니다.

• 디퓨저

• 절연체

• 서셉터

• 기타 맞춤형 열 구성요소

재결정화된 탄화규소의 물리적 특성
재산	일반적인 값
작동 온도(°C)	1600°C(산소 포함), 1700°C(환원 환경)
SiC/SiC 함량	> 99.96%
Si / 자유 Si 함량	< 0.1%
부피 밀도	2.60-2.70g/cm3
겉보기 다공성	< 16%
압축강도	> 600MPa
냉간 굽힘 강도	80-90MPa(20°C)
뜨거운 굽힘 강도	90-100MPa(1400°C)
열팽창 @1500°C	4.7010-6/°C
열전도도 @1200°C	23 W/m•K
탄성률	240GPa
열충격 저항	매우 좋음

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결정 성장을위한 매우 순수한 실리콘 카바이드 분말

Vetek Semiconductor는 전문 제조업체 및 공급 업체로서 결정 성장을위한 고품질 울트라 순수한 실리콘 카바이드 분말을 제공하는 데 전념합니다. 최대 99.999%의 순도와 질소, 붕소, 알루미늄 및 기타 오염 물질의 매우 낮은 불순물 수준의 순도를 갖는 이들은 고순도 실리콘 탄화물의 반 조화 특성을 향상시키기 위해 특별히 설계되었습니다. 문의하고 우리와 협력하는 데 오신 것을 환영합니다!

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중국의 전문가 실리콘 카바이드 세라믹 제조업체 및 공급 업체로서 우리는 자체 공장을 가지고 있습니다. 해당 지역의 특정 요구를 충족시키기 위해 맞춤형 서비스가 필요하거나 중국에서 만든 고급 및 내구성 실리콘 카바이드 세라믹을 구매하려면 메시지를 남길 수 있습니다.