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실리콘 카바이드 세라믹 웨이퍼 보트
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실리콘 카바이드 세라믹 웨이퍼 보트

VeTek Semiconductor는 다양한 반도체 공정 요구 사항을 충족하기 위해 수직/기둥 및 수평 구성의 고품질 웨이퍼 보트, 받침대 및 맞춤형 웨이퍼 캐리어를 전문적으로 제공합니다. 탄화규소 코팅 필름의 선두 제조업체이자 공급업체인 당사의 탄화규소 세라믹 웨이퍼 보트는 높은 비용 효율성과 우수한 품질로 유럽과 미국 시장에서 선호되며 고급 반도체 제조 공정에 널리 사용됩니다. VeTek Semiconductor는 글로벌 고객과 장기적이고 안정적인 협력 관계를 구축하기 위해 최선을 다하고 있으며 특히 중국에서 신뢰할 수 있는 반도체 공정 파트너가 되기를 희망합니다.

Veteksemi Silicon 탄화물 세라믹 웨이퍼 보트 사용의 장점


●  3000F(1650℃)까지 매우 높은 온도 저항

●  산, 용제, 염분, 유기물에 대한 내식성이 우수하고 내마모성이 뛰어납니다.  

●  청소가 용이함

● 강한 충격 저항

●  슬립 프리


Vetek 반도체 제조 산업은 일반적으로 수평 웨이퍼 캐리어 또는 수직 캐리어에서 이러한 웨이퍼를 처리합니다.


● 수평 캐리어, 일반적으로 "보트"라고 불리는 것은 반원형 디자인으로 3-4 개의 수평 배치 막대가 배열되어 있으며, 각 막대는 정기적으로 그루브를 내면으로 향하게합니다. 각 그루브 세트는 수직으로 배치 된 웨이퍼를 운반하기위한 수직 공간을 정의합니다.


● 수직 캐리어일반적으로 "수직 랙"이라고 불리는 3개 또는 4개의 수직 배치 로드(또는 포스트)가 반원형 디자인으로 배열되어 있으며, 각 포스트에는 수평 배치 웨이퍼를 지지하기 위한 공간을 정의하기 위해 일정한 간격으로 슬롯이 설정되어 있습니다.


이 필드에 필요한 기하학적 정밀도를 보장하기 위해 3-4 개의 막대가 상단 플레이트와 하단 플레이트에 고정됩니다. "치아"라고 불리는 각 슬롯 사이의 포스트 부분은 웨이퍼를 정기적으로 바닥 판에서 평행하게 지원하기 위해 동일하게 간격을두고 있습니다. 그런 다음 전체 랙을 수직 용광로 내에 배치하여 웨이퍼를 처리합니다.


수직 랙에서 처리 된 웨이퍼는 수평 보트에서 가공 된 웨이퍼와 비교할 때 얼굴에 온도 구배가 덜 경험되기 때문에 반도체 제조업체는 점점 더 수직 용광로로 전환하고 있습니다. 그러나 수직 퍼닝에 대한 단점이 있습니다. 기존의 수직 랙에 배치 된 웨이퍼는 외부 가장자리에서만지지됩니다. 이와 같이,이 치아에 놓여있는 웨이퍼의 영역은 나머지 웨이퍼보다 높은 응력을 경험합니다.


용광로의 온도가 약 1000°C를 초과하면 이러한 응력이 커지는 경우가 많으며 단결정 웨이퍼의 일부는 해당 응력에 반응하여 결정학적 판을 따라 서로 상대적으로 움직입니다. '슬립'이라 불리는 이 현상은 슬립이 발생한 웨이퍼 부위에 위치한 반도체 소자의 가치를 효과적으로 파괴한다.


중국의 선도적인 실리콘 카바이드 세라믹 웨이퍼 보트 공급업체 및 제조업체인 VeTek Semiconductor는 항상 반도체 처리 산업을 위한 첨단 기술과 웨이퍼 보트 제품 솔루션을 제공하기 위해 최선을 다해 왔습니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 진심으로 기대합니다.


VeTek 반도체실리콘 카바이드 세라믹 웨이퍼 보트 생산 공장:


Graphite substrateSilicon Carbide Ceramic Wafer Boat testSilicon carbide ceramic processingSemiconductor process equipment



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