확산로용 석영로 튜브

1. 주요 특징 및 장점

• 금속 불순물이 ppb 수준으로 제어되고 수산기 함량이 매우 낮은 초고순도 수산화 용융 석영(SiO2 ≥ 99.999%)

• 최대 1100°C의 장기 작동 온도; 1200°C까지의 단기 피크 저항

• 완전 응력 완화 어닐링 후 탁월한 열충격 저항성 - 급격한 온도 변화에도 균열이 발생하지 않음

• 산화, 환원 및 할로겐 함유 공정 가스에 대한 탁월한 화학적 불활성; 플라즈마 및 부식성 대기에 적합

• 진공 가스 방출이 매우 낮습니다. 부드러운 내벽은 부산물 축적을 최소화하고 공정 반복성을 지원합니다.

• 균일한 벽 두께, 높은 동축성 및 안정적인 밀봉을 위해 정밀하게 마감된 끝 부분을 갖춘 일체형 성형

• 사용자 정의 가능한 구조: 직선형 튜브, 리듀서 튜브, 플랜지형 튜브, 확장된 길이 및 수직 또는 수평 용광로를 위한 특수 끝단 ​​구성

2. 일반적인 응용 분야

VeTek 석영로 튜브는 다음 분야의 핵심 반응 챔버로 널리 사용됩니다.

• 열산화로(건식/습식 산화)

• Dopant 도입용 확산로(B, P, As 등)

• 박막 증착을 위한 LPCVD 시스템

• 진공 어닐링 및 기타 고온 열처리 공정

• 4인치, 6인치, 8인치, 12인치 웨이퍼 플랫폼(Si, SiC, GaN, 사파이어 기판)과 호환 가능

안정적인 온도 균일성, 가스 흐름 제어 및 초청정 공정 환경이 요구되는 로직, 메모리, 전력 장치, MCU, LED, MEMS 및 광대역 간격 반도체 제조 라인을 지원합니다.

3. 주요 기술 매개변수

• 재질: 반도체급 수산화 용융 석영(SiO2 ≥ 99.999%), 낮은 수산기, 낮은 금속 불순물

• 웨이퍼 호환성: 4/6/8/12인치

• 장기 작동 온도: −20 °C ~ 1100 °C; 최대 1200°C의 단기 피크

• 공정: 일체형 열성형, 벽체 균질화, 최종 마감, 응력 완화 어닐링, 헬륨 누출 테스트, 초청정 세척

• 사용 가능한 구조: 직선형 튜브, 리듀서 튜브, 플랜지형 튜브, 확장/맞춤형 길이 튜브, 특수 엔드 구성

• 맞춤화: 내경/외경, 길이, 벽 두께, 플랜지 사양 및 고객 도면별 특수 형상

4. VeTek 석영로 튜브를 선택하는 이유는 무엇입니까?

VeTek Semiconductor는 반도체 석영 부품 전문 제조업체로서 다음을 제공합니다.

• 산화, 확산, LPCVD 및 어닐링 장비용으로 설계된 고순도 석영로 튜브

• 클래스 10/클래스 100 클린룸 생산에 적합한 엄격한 순도 관리, 치수 정확도 및 청결도

• 수직 및 수평 관상로를 위한 완전한 맞춤화 및 OEM 호환 설계

• 웨이퍼 보트, 도가니, 라이너 및 기타 공정 부품을 포함한 보완적인 반도체 석영 제품

당사의 석영로 튜브는 안정적인 열 및 가스 흐름 조건을 유지하고, 입자 및 금속 오염을 최소화하며, 지속적인 고온 사이클링에서 서비스 수명을 연장하여 반도체 열 처리에서 더 높은 수율과 낮은 소유 비용을 지원합니다.