수평형 SiC 웨이퍼 캐리어

반도체를 처리합니다수평형 SiC 웨이퍼 캐리어/Boat는 융점이 매우 높아(약 2700°C)수평형 SiC 웨이퍼 캐리어/보트는 변형이나 분해없이 고온 환경에서 안정적으로 작동합니다. 이 특징은 특히 반도체 제조 공정, 특히 고온 어닐링 또는 화학 증기 증착 (CVD)과 같은 공정에서 특히 중요합니다.

그만큼수평 SIC 웨이퍼 캐리어/보트는 특히 웨이퍼 캐리어를 운반하는 과정에서 다음과 같은 역할을 수행합니다.

실리콘 웨이퍼 운반 및 지지: 수평 SIC 웨이퍼 보트는 주로 반도체 제조 중에 실리콘 웨이퍼를 운반하고 지원하는 데 사용됩니다. 여러 실리콘 웨이퍼를 함께 정리하여 전체 처리 프로세스에서 우수한 위치와 안정성을 유지할 수 있습니다.

균일 한 가열 및 냉각: SiC의 높은 열전도율로 인해 Wafer Boat는 모든 실리콘 웨이퍼에 효과적으로 열을 고르게 분배할 수 있습니다. 이는 고온 처리 중에 실리콘 웨이퍼의 균일한 가열 또는 냉각을 달성하여 처리 프로세스의 일관성과 신뢰성을 보장하는 데 도움이 됩니다.

오염을 방지하십시오: SIC의 화학적 안정성은 고온 및 부식성 가스 환경에서 잘 작동하여 실리콘 웨이퍼의 가능한 오염 물질 또는 반응물에 노출되어 실리콘 웨이퍼의 순도와 품질을 보장합니다.

실제로, 수평 SIC 웨이퍼 보트는 고유 한 제품 특성으로 인해 위의 역할을 수행 할 수 있습니다.

우수한 화학적 안정성: SIC 재료는 다양한 화학 매체에 대한 부식성이 우수합니다. 부식성 가스 또는 액체를 가공하는 과정에서 SIC 웨이퍼 보트는 화학 부식을 효과적으로 저항하고 오염 또는 손상으로부터 실리콘 웨이퍼를 보호 할 수 있습니다.

높은 열전도율: SiC의 높은 열전도율은 캐리어 공정에서 열을 고르게 분산시켜 열축적을 줄여줍니다. 이는 정밀 가공 중 온도 제어의 정확성을 향상시키고 실리콘 웨이퍼의 균일한 가열 또는 냉각을 보장할 수 있습니다.

낮은 열 팽창 계수: SIC 재료의 낮은 열 팽창 계수는 SIC 웨이퍼 보트의 치수 변화가 온도 변화 동안 매우 작음을 의미합니다. 이는 고온 가공 동안 치수 안정성을 유지하고 열 팽창으로 인한 실리콘 웨이퍼의 변형 또는 위치 변위를 방지합니다.

수평형 SiC 웨이퍼 캐리어의 기본 물리적 특성:

VeTek 반도체 생산 공장:

반도체 칩 에피택시 산업 체인 개요: