알루미늄 질화물 세라믹 디스크

Vetek 반도체 알루미늄 질화물 세라믹 플레이트는 높은 열전도율, 낮은 팽창 계수, 고강도, 고온 저항, 화학적 차단 저항성, 높은 저항 및 낮은 유전체 손실을 갖는 이상적인 절연 세라믹 제품입니다. 알루미늄 질화물 세라믹은 독성 베릴륨 산화물 세라믹을 대체 할 수 있으며 전자 산업에서 널리 사용됩니다.

성능 이점 :

알루미나 세라믹과 비교할 때, 알루미늄 질화물은 열전도율이 높고 100도에서 열 전도도는 170W/ m.K 이상이고 산화 알루미늄의 열 전도도는 15-35 w/ (m · k)이며 알루미늄 산화물의 5 배를 초과합니다.

알루미늄 질화물 세라믹 물질의 경도는 일반적으로 9 개의 MOHS 경도이며, 이는 알루미늄 질화물 세라믹의 경도가 매우 높고, 다이아몬드에 이어 두 번째로, 반도체 포장 공정에서, 일반적으로 알루미늄 질화물 세라믹 컵은 기질 전도도 및 기타 주요 불안정성에 사용됩니다.

이러한 종류의 세라믹의 선형 팽창 계수는 일반적으로 4 ~ 5 × 10^ 범위입니다.^-6/more, 이는 금속 재료의 확장 계수와 더 일치하게하여 응력 생성 및 TH의 생성을 줄이는 데 도움이됩니다.온도 변화로 인한 적성 응력.

동시에, 알루미늄 질화물 세라믹의 굽힘 강도는 일반적으로 300 ~ 700 MPa이며, 지르코니아 및 알루미나와 같은 다른 세라믹 재료의 것보다 높습니다.

온도 측면에서 알루미늄 질화물 세라믹은 고온 환경에서 안정적으로 작동 할 수 있으며, 사용 온도는 1500 ° 이상에 도달 할 수 있으며, 이는 고온 공정 및 응용에 적합합니다.

불활성 가스에 대한 내성 외에도 알루미늄 질화물 세라믹 디스크는 산 및 알칼리와 같은 부식성 매체에 대한 우수한 화학적 안정성과 높은 저항성을 나타내므로 화학 산업에서 널리 사용됩니다.

알루미늄 질화물 세라믹 디스크는 보통 10^ 사이에 높은 저항력을 갖습니다.¹⁴그리고 10^¹⁵ω · cm, 전기 절연 특성이 필요한 경우에 적합합니다. 알루미늄 질화물 세라믹은 유전체 손실이 매우 낮으므로 유전체 응용 분야에서 에너지 손실이 감소 될 수 있음을 의미합니다.

응용 프로그램 영역 :

반도체 포장 : 효율적인 열 관리 3410을 제공하기 위해 전력 모듈 (IGBT), 고출력 칩 캐리어, 고형 상태 릴레이 등의 경우.

전자 기판 : 박막/두꺼운 필름 회로 보드로서 고정밀 가공을지지합니다 (예 : RA 0.3μm 표면 거칠기에 대한 연마) 410.

RF/마이크로파 장치 : 고주파 회로 보드 1018에 적합한 저 유전 손실 (TANΔ ≤3 × 10⁻⁴, 1MHz) 특성.

기타 산업 시나리오 : 진공 코팅 장비 부품, HIG와 같은 기타 산업 시나리오

처리 및 사용자 정의 서비스

정밀 가공 :지지 절단, 드릴링, 연삭, 연마 (표면 거칠기 RA 최대 0.3μm) 및 맞춤형 특수 모양 구조 410.

표면 처리 : 소결 된 기판은 표면 부드러움을 개선하기 위해 재구성 될 수있다 (예를 들어, 30 마이크로 인치 RA에서 1 마이크로 인치 RA까지) 4.

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