질화알루미늄(AlN) 세라믹 정전척

VeTek 알루미늄 질화물 세라믹 정전기 척(ESC)은 정밀한 온도 제어, 안정적인 정전기 유지 및 낮은 입자 생성을 요구하는 반도체 공정 도구용으로 설계된 높은 열전도율 웨이퍼 클램핑 플랫폼입니다. 고순도 AlN 세라믹으로 제조된 이 척은 150mm, 200mm 및 300mm 웨이퍼 공정을 위한 탁월한 열 확산, 높은 전기 절연성 및 안정적인 쿨롱 또는 존슨-라벡 클램핑을 제공합니다.

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제품 설명

1.장점

• 효율적인 열 전달 및 온도 균일성을 위해 최대 180W/m·K의 열 전도성을 갖춘 고순도 AlN 세라믹

• 강력한 전기 절연성과 높은 체적 저항력으로 1~3kV에서 안정적인 클램핑 지원(더 높은 전압 사용 가능)

• 맞춤형 유전체 층 재료 및 전극 레이아웃: Coulomb 또는 Johnsen-Rahbek(JR); 단일 또는 다중 영역

• 일반적으로 0.1초 미만의 빠른 클램핑 및 디클램핑 성능

• 표면 딤플 미세구조는 직경이 최대 300μm까지 감소하여 접촉 면적을 최대 1%까지 줄입니다.

• 높은 평탄도 성능; 300mm 클래스 플랫폼의 경우 0.5~3μm PV 정도의 일반적인 전역 평탄도

• 공정 환경에 대한 수분 흡수가 거의 0에 가깝고 내화학성이 우수한 조밀한 미세 구조

2.일반적인 응용 분야

질화알루미늄 세라믹 정전척은 안전한 웨이퍼 고정과 열 거동 제어가 모두 필요한 공정 단계에 사용됩니다.

• 건식 플라즈마 식각(ICP/RIE) 및 관련 챔버 공정

• CVD, PEALD, 열 ALD 및 기타 박막 증착 단계

• 균일한 웨이퍼 온도를 요구하는 어닐링 및 열 공정 모듈

• 낮은 입자와 안정적인 클램핑이 중요한 검사, 계측 및 정밀 단계

3.AlN 재료 등급 – 일반적인 특성

VeTek은 ESC 설계의 열 전도성, 기계적 강도 및 비용의 균형을 맞추기 위해 다양한 질화 알루미늄 등급을 제공합니다.

재산	AIN-HC95	AIN-HP95	AIN99	AIN999	AIN-HP999	AIN-HP999LR
색상	회색	회색	회색	회색	회색	회색
청정	≥95%	≥95%	≥99%	≥99.9%	≥99.9%	≥99.9%
밀도(g/cm3)	3.3	3.3	3.3	3.2	3.3	3.3
수분흡수율(%)	0	0	0	0	0	0
HV 경도(GPa)	10	10	10	10	10	10
굴곡강도(MPa)	380	400	350	310	360	310
탄성률(GPa)	320	300	300	300	300	300
파괴 인성	3	3.4	3	2.8	2.3	3.3
CTE(×10⁻⁶/°C)	4.6	5.7	5.2	5.5	5.7	5.4
열전도율	180	180	100	90	90	90
열충격(°C)	400	500	—	—	350	—
유전 강도	16	16	—	16	—	—
체적 저항률	1×10¹⁴	1×10¹⁵	1×10¹⁵	—	1×10¹⁵	조절할 수 있는
유전 상수	8.6	8.6	8.5	8.5	—	—

단위: 열전도도(W/(m·K)); 유전 강도(kV/mm); 체적 저항률(Ω·cm)(25°C); 1MHz에서의 유전 상수. 값은 일반적인 값이며 프로세스 및 부품 형상에 따라 달라질 수 있습니다.

4.일반적인 ESC 설계 매개변수

매개변수	일반적인 값/범위
세라믹 소재	질화알루미늄(AlN)
ESC 유형	쿨롱 / 존슨-라벡(JR)
전극 레이아웃	단일 또는 다중 영역
제조 루트	열간 프레싱(TC가 높은 등급에는 AlN이 선호됨)
클램프/디클램프 시간	< 0.1초(일반)
딤플 직경(최소)	~300μm
접촉 부위(딤플 있음)	~1%까지 줄일 수 있습니다.
전역 평탄도(300mm 클래스)	~0.5~3μm PV(일반)
클램핑 전압	1~3kV 표준; >15kV 설계 가능