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TAC 코팅 회전 감수기
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TAC 코팅 회전 감수기

중국의 TAC 코팅 회전 감수자 제품의 전문 제조업체, 혁신가 및 리더로서. Vetek 반도체 TAC 코팅 회전 감수자는 일반적으로 균일 한 재료 증착 및 효율적인 반응을 보장하기 위해 웨이퍼를지지하고 회전시키기 위해 화학 기상 증착 (CVD) 및 분자 빔 에피 택시 (MBE) 장비에 설치됩니다. 반도체 처리의 핵심 구성 요소입니다. 추가 상담을 환영합니다.

Vetek 반도체 TAC 코팅 회전 감수기는 반도체 처리에서 웨이퍼 처리의 핵심 구성 요소입니다. 그것은tac 뭐우리의우수한 고온 공차 (최대 3880 ° C의 용융점), 화학적 안정성 및 부식 저항이있어 웨이퍼 처리에서 높은 정밀도 및 고품질을 보장합니다.


TAC 코팅 회전 감수기 (탄탈 룸 탄소 코팅 회전 감수기)는 반도체 처리에 사용되는 주요 장비 구성 요소입니다. 일반적으로 설치됩니다화학 기상 증착 (CVD)및 균일 한 재료 증착 및 효율적인 반응을 보장하기 위해 웨이퍼를지지하고 회전시키는 분자 빔 에피 택시 (MBE) 장비. 이 유형의 제품은 기판을 코팅하여 고온 및 부식성 환경에서 장비의 서비스 수명과 성능을 크게 향상시킵니다.탄탈륨 탄소 (TAC) 코팅.


TAC 코팅 회전 감수기는 일반적으로 기판 물질로서 TAC 코팅 및 흑연 또는 실리콘 탄화물로 구성된다. TAC는 매우 높은 융점 (최대 3880 ° C의 융점)을 가진 초고 온도 세라믹 재료이며, 경도 (Vickers 경도는 약 2000 HK) 및 우수한 화학적 차단 저항성입니다. Vetek 반도체는 CVD 기술을 통해 기판 재료의 탄탈륨 탄소 코팅을 효과적으로 고르게 커버 할 수 있습니다.

회전 감수자는 일반적으로 높은 열전도율과 고강도 재료로 만들어집니다 (흑연 또는실리콘 카바이드), 고온 환경에서 우수한 기계적지지 및 열 안정성을 제공 할 수 있습니다. 두 가지의 완벽한 조합은 웨이퍼를지지하고 회전하는 데있어 TAC 코팅 회전 감수자의 완벽한 성능을 결정합니다.


TAC 코팅 회전 감수자는 CVD 공정에서 웨이퍼를지지하고 회전시킵니다. TAC의 Vickers 경도는 약 2000 HK이며, 이는 재료의 반복 마찰에 저항하고 좋은지지 역할을 수행하여 반응 가스가 웨이퍼 표면에 골고루 분포되고 재료가 균일하게 증착되도록합니다. 동시에, TAC 코팅의 고온 공차 및 부식 저항은 고온 및 부식성 대기에서 오랫동안 사용될 수있게되며, 이는 웨이퍼와 캐리어의 오염을 효과적으로 피할 수 있습니다.


또한, TAC의 열 전도도는 21 w/m · k이며, 이는 우수한 열 전달을 갖는다. 따라서, TAC 코팅 회전 감수자는 고온 조건 하에서 웨이퍼를 고르게 가열하고 회전 운동을 통해 가스 증착 공정의 균일 성을 보장하여 일관성과 고품질을 유지할 수 있습니다.웨이퍼 성장.


현미경 단면에서 탄탈 룸 탄화물 (TAC) 코팅

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


TAC 코팅의 물리적 특성


TAC 코팅의 물리적 특성
밀도
14.3 (g/cm³)
특정 방사율
0.3
열 팽창 계수
6.3*10-6/케이
경도 (HK)
2000 hk
저항
1 × 10-5옴*cm
열 안정성
<2500 ℃
흑연 크기 변화
-10 ~ -20UM
코팅 두께
≥20UM 일반 값 (35um ± 10um)



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