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고순도 석영 보트
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고순도 석영 보트

우리의 고순도 석영 보트는 융합 석영으로 만들어졌습니다 (Sio₂ 함량 ≥ 99.99%). 극한 환경에 대한 저항, 낮은 열 확장 계수 및 긴 수명주기에 대한 저항력으로 반도체 및 새로운 에너지 산업에서는 소비 할 수없는 주요 주요 키가되었습니다.


고순도 석영 보트는 고온, 고소도 공정을 위해 설계된 초고 순도 석영 재료 (Sio₂ 함량 ≥ 99.99%)로 만들어진 정밀 캐리어입니다. 이 장치는 어닐링, 확산, 산화 및 화학 증기 증착 (CVD)과 같은 공정에 필수적이며 반도체, 광전지 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다. 그것의 핵심 장점은 재료 자체의 물리적, 화학적 안정성에있다.


ⅰ. Veteksemicon High-Purity Quartz 보트의 탁월한 물리적 특성


형질
특정 매개 변수/성능
청정
SIO9. 함량 ≥99.99% (4n 등급), 금속 불순물 (예 : NA, K, FE) ≤10 ppm, 민감한 공정 환경의 오염을 피하십시오.
고온 저항

연화점 : ≥1660 ° C (단기 공차 1700 ° C); 

연속 사용 온도 :1200 ° C (변형없는 장기 안정성)

열 팽창 계수
0.55 × 10/° C (20 ~ 1000 ° C), 0 팽창에 가깝고 우수한 열 충격 저항.
화학적 안정성
강산 (HF 제외), 강한 알칼리 (실온에서)에 내성이 있으며, 고온에서 H₂ 및 CL₂과 같은 부식성 가스에 내성이 있습니다.
광학 특성
UV-IR 투과율 ≥90% (200 ~ 2500 nm), 리소그래피 및 레이저 공정에서 투명한 캐리어 요구 사항에 적합합니다.
기계적 강도

압축 강도 : ≥1200 MPa

표면 경도 (MOHS) : 7 (일반 유리보다 높음)

표면 마감
Ra≤0.2 μm, 입자 오염을 감소시키고 웨이퍼 수율을 향상시킨다.


ⅱ. 고순도 석영 보트의 주요 용도 및 해당 제품 장점


1. 반도체 제조 :


구체적인 용도 : 웨이퍼 고온 확산, 산화, 어닐링 및 CVD (화학 증기 증착) 공정의 캐리어 도구.


제품 장점 :

매우 낮은 오염: Veteksemicon의 99.99% 순수 웨이퍼 보트는 금속 이온 오염을 피하고 칩 전기 성능을 보장합니다.

정확한 크기: 석영 웨이퍼 보트의 평탄도는 ± 0.05 mm이며, 웨이퍼의 균일 한 가열 (예 : 12 인치 웨이퍼 보트).

긴 수명: 우리가 기록한 실제 생산 데이터에 따르면, 우리가 생산 한 석영 웨이퍼 보트는 1200 ° C에서 1000 시간 이상 지속적으로 사용할 수 있으며 대체 빈도를 크게 줄일 수 있습니다 (일반 석영 보트와 비교하여 수명은 3 배 증가합니다).


2. 태양 광 산업


구체적인 용도 : 태양 광 산업 제조 분야에서, 고순도 석영 보트는 일반적으로 PERC 세포의 인 확산 및 Topcon 세포의 붕소 확산 공정에서 실리콘 웨이퍼에 일반적으로 사용됩니다.


성능 장점 :

고 부하 설계: 우리가 생산하는 단일 보트는 200 ~ 300 실리콘 웨이퍼 (두께 160 ~ 180μm)를 운반 할 수 있으며, 단위 시간당 웨이퍼 생산 능력을 크게 향상시킵니다.

빠른 온도 상승 및 하락: 초 저 열 팽창 계수 (0.55 × 10/° C (20 ~ 1000 ° C), 팽창에 가깝음)는 공정주기의 10% ~ 15% 감소를 지원합니다.

절제 방지 효과: 실리콘 웨이퍼 하중 공정 동안 나트륨 이온 침전은 사진으로 인한 분해의 위험을 줄입니다.


ⅲ. 석영 보트 포장 사양


Veteksemicon Quartz 보트는 다층 조밀 한 포장을 사용하여 보관 및 운송 중 제품의 무결성을 보장합니다.


동시에 Veteksemincon은 비표준 크기 (오차 ± 0.1 mm), 다층 적층 설계 (최대 5 층) 및 고온 저항 필름 코팅 (예 : SIC 코팅)과 같은 맞춤형 확장 프로세스 설계를 지원합니다. 추가 상담을 환영합니다.


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