Vetek Semiconductor 열 분사 기술은 특히 높은 정밀도와 높은 청결도가 요구되는 반도체 제조 환경에서 웨이퍼 처리 로봇 팔을 적용하는 데 중요한 역할을 합니다. 이 기술은 웨이퍼 핸들링 로봇 암 표면에 특수 소재를 코팅해 장비의 내구성과 신뢰성, 작업 효율성을 획기적으로 향상시키는 기술이다. 문의에 오신 것을 환영합니다.
Vetek Semiconductor 반도체 열 분사 기술은 용융 또는 반용융 상태의 재료를 기판 표면에 분사하여 코팅을 형성하는 고급 공정입니다. 이 기술은 반도체 제조 분야에서 널리 사용되며 주로 전도성, 절연성, 내식성, 내산화성 등 기판 표면에 특정 기능을 갖는 코팅을 만드는 데 사용됩니다. 용사 기술의 주요 장점은 고효율, 코팅 두께 제어 가능, 우수한 코팅 접착력 등으로, 높은 정밀도와 신뢰성이 요구되는 반도체 제조 공정에서 특히 중요합니다. 귀하의 문의를 기대합니다.
Veteksemi의 Semiconductor MAX 상 나노분말은 뛰어난 열적, 전기적 특성을 제공하여 고급 전자 및 재료 과학 응용 분야에 이상적입니다. 뛰어난 내산화성과 고온 안정성을 갖춘 Veteksemi의 나노분말은 혁신적인 반도체 기술을 위한 완벽한 솔루션입니다.
Vetek Semiconductor의 다공성 SiC 진공척은 일반적으로 반도체 제조 장비의 핵심 부품, 특히 CVD 및 PECVD 공정에 사용됩니다. Vetek Semiconductor는 고성능 다공성 SiC 진공 척을 전문적으로 제조 및 공급합니다. 추가 문의를 환영합니다.
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