Aixtron G5+ 천장 성분

갈륨 질화물 (GAN)은 높은 전자 이동성, 고 분해 전기장 및 높은 포화 전자 속도와 같은 우수한 물리적 특성을 갖는 와이드 밴드 갭 반도체 재료입니다. 광전자 장치 (예 : 광 방출 다이오드, 레이저 다이오드) 및 고주파 고출력 전자 장치 (예 : 전력 증폭기)에서 널리 사용됩니다. 실리콘 (SI)은 일반적으로 사용되는 반도체 기판 재료로 저렴한 비용, 대형 크기 및 기존 실리콘 기반 통합 회로 프로세스와의 호환성이 장점이 있습니다. 따라서 SI에서 Gan 에피 택셜 층을 늘리는 것은 매우 귀중한 연구 주제입니다. Aixtron G5+ 시리즈는 현재 가장 인기있는 SI 기반 GAN 에피 택셜 성장 장비 중 하나이며, 이는 많은 중요한 구성 요소가 있으며 천장 구성 요소는 중요한 구성 요소 중 하나입니다.

Aixtron G5+ 천장 성분은 SGL 흑연으로 만들어집니다. 주요 기능은 온도를 제어하고 웨이퍼를 통한 가장 낮은 열 흐름을 보장하는 것입니다.

 ●온도 균일 성 제어 : 

Aixtron G5+ 천장 성분은 반응 챔버 전체에서 균일 한 온도 분포를 달성하는 데 도움이됩니다. 반도체 에피 택셜 성장 공정에서, 온도 균일 성은 고품질 에피 택셜 층을 성장시키는 데 중요합니다. 그것은 모든 웨이퍼 또는 위성 성분에서 동일한 표면 온도를 얻을 수 있도록하여 모든 위치에서 에피 택셜 재료의 성장 속도 및 품질의 일관성을 보장하여 공정 수율을 향상시킵니다.

 ● 성장 환경 최적화 : 

반응 챔버의 일환으로, Aixtron G5+ 천장 성분은 다른 구성 요소와 함께 안정적인 성장 환경을 형성합니다. 그것은 열 손실을 줄이고 반응 챔버의 온도를 더 안정적으로 만들 수 있으며, 이는 에피 택셜 성장 조건을 정확하게 제어하고 온도 변동으로 인한 에피 택셜 층 결함 및 성능을 감소시키는 데 도움이됩니다.

Aixtron G5+ 천장 구성 요소는 Vetek Semiconductor가 시작한 업계의 주류 제품 중 하나입니다. Vetek 반도체를 선택한다는 것은 실리콘 카바이드 코팅 혁신의 경계를 높이기 위해 노력하는 회사와 파트너 관계를 맺는 것을 의미합니다. 품질, 성능 및 고객 만족도에 중점을 두어 반도체 산업의 엄격한 요구를 충족 할뿐만 아니라 충족하는 제품을 제공합니다. Advanced Aixtron G5+ Ceiling Component Solutions를 사용하여 더 큰 효율성, 신뢰성 및 성공을 달성하도록 도와 드리겠습니다.

SGL 6510 흑연의 재료 데이터 :

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