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실리콘 에피택시의 특성20 2024-06

실리콘 에피택시의 특성

고순도: 화학 기상 증착(CVD)으로 성장한 실리콘 에피택셜 층은 기존 웨이퍼보다 순도가 매우 높고 표면 평탄도가 더 좋으며 결함 밀도가 더 낮습니다.
탄탄한 실리콘 카바이드의 사용20 2024-06

탄탄한 실리콘 카바이드의 사용

SIC (Solid Silicon Carbide)는 고유 한 물리적 특성으로 인해 반도체 제조의 주요 재료 중 하나가되었습니다. 다음은 물리적 특성 및 반도체 장비 (예 : 웨이퍼 캐리어, 샤워 헤드, 에칭 포커스 링 등)에 따른 장단점에 대한 분석입니다.
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